酸化チタンリチウム（チタン酸リチウム）（LTO）

チタン酸リチウムスパッタリングターゲット概要

チタン

酸

リチ

ウム

スパッ
タリング
ターゲットは

、

先進電池研究、電気セラミックス、エネルギー貯蔵デバイス開発における薄膜成膜プロセス向けに設計された高純度セラミック材料です。優れた相純度、均一な密度、安定したスパッタリング性能を特徴とし、精密な化学量論比と優れた結晶性を備えた高品質薄膜の作製を可能にします。

当社のチタン酸リチウムスパッタリングターゲットは、高度な焼結およびホットプレス技術を用いて製造され、最適な密度、最小限の欠陥、再現性のある薄膜成膜速度を保証します。包括的なアフターサービスを提供しておりますので、ご質問がございましたらお気軽にお問い合わせ
ください。

製品の特徴

純度：≥99.9%（ご要望に応じてカスタマイズ可能）
高密度かつ均一な微細構造
サイズ・形状のカスタマイズ対応材料選定に関する
技術サポート

チタン酸リチウムスパッタリングターゲットの応用分野

電池
材料：リチウムイオン電池・固体電池用薄膜電極
電気セラミックス：電子・エネルギーデバイス向け機能性コーティング
固体電解質：全固体電池における保護層・界面層の成膜

よくあるご質問

Q1: チタン酸リチウムスパッタリングターゲットは主にどのような薄膜の製造に使用されますか？
A1: 本スパッタリングターゲットは、主に機能性チタン酸リチウム薄膜の作製に使用され、リチウム電池関連材料、エネルギー貯蔵デバイス、電子機能層の研究で広く見られます。

Q2: 薄膜研究におけるチタン酸リチウム材料の特徴は何ですか？
A2: 本材料系は構造安定性に優れ、薄膜の電気化学的挙動、界面特性、長期堆積一貫性の研究に適しています。

Q3: このスパッタリングターゲットに適した成膜プロセス条件は？
A3: リチウムチタン酸スパッタリングターゲットは、RFスパッタリングなどの一般的なPVDプロセスで使用可能で、各種実験用・パイロットスケールのスパッタリング装置に対応しています。

Q4: リチウムチタン酸スパッタリングターゲット使用時に考慮すべき点は？
A4: 適切なプロセスパラメータ下では安定した成膜結果が得られます。薄膜の再現性と均一性を確保するため、特定の装置条件に基づいてプロセスを最適化することを推奨します。

報告書

Li4Ti5O12の各ロットには分析証明書（COA）
および安全データシート（MSDS）
が付属します。
第三者機関による分析結果もご要望に応じて提供可能です。
XRD、SEM、密度測定報告書はオプションで対応可能です（要ご依頼）。