酸化スズ(IV)

酸化スズ(IV)スパッタリングターゲット 概要

酸化スズ(IV) スパッタリングターゲットは、薄膜成膜プロセス用に特別に設計された機能性セラミック材料で、優れた導電性と光学的透明性を提供します。プロセスの配合と密度を制御することにより、高品質の酸化物導電性薄膜を成膜することができます。これらのターゲットは、透明導電膜、エレクトロクロミックデバイス、ガスセンサーなどに広く使用されています。

弊社では、お客様の仕様に合わせてカスタマイズ可能な様々な酸化スズ(IV)スパッタリングターゲットを提供しています。また、包括的な技術サポート および アフターサービスを提供しております。

製品ハイライト

純度：99.99
高密度、空孔率低減、膜の均一性向上
直径、厚さ、ドーピング比をカスタマイズ可能
優れた安定性、各種スパッタリング装置およびプロセスとの互換性
カスタマイズ可能なパッケージング
フッ素ドープ、シビウムドープを含む様々な導電性SnO₂ターゲット（FTO、ATO）で利用可能。

酸化スズ(IV)スパッタリングターゲットの用途

透明導電膜：ITO代替などのTCO層に使用。
ガスセンサー：NO₂、COなどのガスセンサーに広く使用されている。
太陽電池：デバイス効率向上のための導電層やバリア層として使用される。
ディスプレイデバイス：LCD、OLED、タッチパネルなどの電極やバッファー層として使用。
エレクトロクロミックデバイス透明電極材料として使用され、変色効果を得る。

レポート

SnO₂スパッタリングターゲットの各バッチは、完全な 分析証明書（COA）、物質安全データシート（MSDS）、およびその他の関連レポートが提供されます。第三者機関によるテストは、以下を確実にするためにサポートされています。