酸化スズ(II)

酸化スズ(II)スパッタリングターゲット 概要

酸化スズ(II) スパッタリングターゲットは、高度な薄膜形成プロセス用に設計された高性能材料である。透明電子デバイス、ガスセンサー、リチウム電池、機能性薄膜などに広く使用されています。これらの材料は、優れた導電性、低キャリア濃度、優れた膜均一性を提供し、幅広い最先端技術の要求に応えます。

弊社は、円形、長方形、リング型など様々な形状やサイズの酸化スズスパッタリングターゲットを提供しており、お客様の特定のアプリケーション要件に合わせてカスタマイズすることが可能です。また、包括的なアフターセールス 技術サポートを提供しています。

製品ハイライト

純度：99.99
不純物が少ないため、安定した膜性能が得られます。
緻密な構造、優れたスパッタリングレートと膜の均一性
サイズ、厚み、実装方法のカスタマイズが可能
透明導電膜やガスセンサの作製に最適

酸化スズ(II)スパッタリングターゲットの用途

透明電子デバイス：TFTディスプレイや有機発光素子（OLED）のp型透明導電膜材料として使用される。
ガスセンサー：COやNO₂などのガスを検出する高感度SnOベースガスセンサーの調製に使用。電気化学デバイス：リチウムイオン電池の負極材料のコーティングとして使用され、サイクル安定性を向上させる。
オプトエレクトロニクスおよび機能性薄膜：赤外フィルターや低放射ガラスなどの特殊用途に使用される。

レポート

弊社では 分析証明書（COA）製品安全データシート(MSDS)などの関連報告書を各出荷品に添付しています。また、品質保証を強化するため、第三者機関による試験にも対応しています。