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酸化インジウム亜鉛(IZO)

Chemical Name:
酸化インジウム亜鉛(IZO)
Formula:
In2O3-ZnO
Product No.:
4908300800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
4908300800ST001 In2O3:ZnO (90/10 wt%) 99.95% 299.6 mm x 125 mm x 6mm Inquire
4908300800ST002 In2O3:ZnO (60/40 wt%) 99.95% 800 mm x 125 mm x 6mm Inquire
4908300800ST003 In2O3:ZnO (90/10 wt%) 99.95% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
4908300800ST004 In2O3:ZnO (60/40 wt%) 99.95% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
4908300800ST005 In2O3:ZnO (95/5 wt%) 99.95% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
4908300800ST006 In2O3:ZnO (90/10 wt%) 99.95% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
4908300800ST007 In2O3:ZnO (60/40 wt%) 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
4908300800ST008 In2O3:ZnO (95/5 wt%) 99.95% Ø 152.4 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
4908300800ST001
Formula
In2O3:ZnO (90/10 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
299.6 mm x 125 mm x 6mm
Product ID
4908300800ST002
Formula
In2O3:ZnO (60/40 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
800 mm x 125 mm x 6mm
Product ID
4908300800ST003
Formula
In2O3:ZnO (90/10 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
4908300800ST004
Formula
In2O3:ZnO (60/40 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
4908300800ST005
Formula
In2O3:ZnO (95/5 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
4908300800ST006
Formula
In2O3:ZnO (90/10 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
4908300800ST007
Formula
In2O3:ZnO (60/40 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
4908300800ST008
Formula
In2O3:ZnO (95/5 wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 152.4 mm x 6.35 mm

酸化インジウム亜鉛スパッタリングターゲットの概要

酸化インジウム亜鉛(IZO)スパッタリングターゲットは、薄膜エレクトロニクス、オプトエレクトロニクスデバイス、半導体アプリケーションに広く使用されている高純度透明導電性酸化物(TCO)材料です。優れた導電性、光学的透明性、均一な成膜性を持つIZOスパッタリングターゲットは、ディスプレイ、タッチパネル、太陽光発電デバイスの薄膜成膜に不可欠です。当社のターゲットは、純度99.95%(3N5)、緻密な構造、安定した性能を確保し、産業および研究用途に使用されています。

弊社は研究機関やメーカーに高品質の酸化インジウム亜鉛スパッタリングターゲットを供給しています。 カスタマイズ可能 比率お問い合わせ最高の価格と 技術サポート

IZOスパッタリングターゲットの製品ハイライト

優れた純度:99.95%(3N5)の純度は、薄膜およびTCO用途の厳しい要件を満たします。
カスタマイズ可能な組成:In:Zn比およびターゲット寸法は、成膜要件に応じて調整可能です。
高性能:優れた導電性、光学的透明性、安定したスパッタリング特性。
安定した材料:緻密な構造、均一な組成、低不純物レベルにより、再現性の高い薄膜が得られます。

高品質IZOスパッタリングターゲットの用途

薄膜エレクトロニクス:透明電極、薄膜トランジスタ(TFT)、ディスプレイパネルに応用。
オプトエレクトロニクスデバイス:OLED、受光素子、赤外線センサー、タッチパネルなどに使用される。
太陽電池太陽電池CIGSやその他の高度な太陽電池のバッファー層や透明電極層に適している。
研究開発材料科学やデバイス研究の研究所で広く使用されている。
エネルギーデバイスエネルギー貯蔵・変換用途の透明導電膜に応用。

弊社を選ぶ理由

業界の専門知識:TCOおよび薄膜技術用の高純度スパッタリングターゲットの供給に特化しています。
カスタマイズされたソリューション:ターゲット組成、寸法、純度仕様に柔軟に対応。
信頼できる品質:厳格な不純物管理、緻密な構造、均一な組成により、安定した性能を保証します。
グローバル配送:保護梱包により、迅速かつ安全に世界中に配送。
テクニカルサポート:プロフェッショナルチームが完全な技術文書とコンサルティングを提供します。

よくある質問

F1.IZOスパッタリングターゲットの純度を教えてください。
A1.当社のターゲットの標準純度は99.95%(3N5)であり、高度な薄膜およびオプトエレクトロニクス用途において信頼性の高い結果をお約束します。

F2.酸化インジウム亜鉛ターゲットの組成やターゲットサイズはカスタマイズできますか?
A2.In:Znの比率やターゲットの寸法は、蒸着システムの要件に応じてカスタマイズ可能です。

F3.酸化インジウム亜鉛スパッタリングターゲットはどのように保管すればよいですか?
A3.湿気や汚染物質を避け、涼しく乾燥した環境で、保護パッケージに入れて保管してください。

F4.酸化インジウム亜鉛スパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか?
A4.薄膜エレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、太陽電池、半導体、研究所などで広く使用されています。

レポート

各バッチの製品には、以下のものが付属しています:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
製品安全データシート(MSDS)
ご要望に応じて、工業規格および研究規格に適合する第三者試験報告書をご提供いたします。

化学式In₂O₃-ZnO
外観オフホワイトまたはシルバーグレーの緻密なターゲット
融点: ~1900°C
沸点:~2000
結晶構造立方体(In₂O₃を主相とする)
バッキングプレートの選択銅(Cu)、アルミニウム(Al)、ステンレス鋼(SS)、ターゲットサイズと蒸着装置により選択可能
スパッタリング方法RF/DCマグネトロンスパッタリング

包装:真空シールされた袋と、汚染や湿気を防ぐための箱詰め。

外箱梱包:サイズと重量に応じて選択されたカートンまたは木枠。

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