酸化イッテルビウム

酸化イッテリビウムスパッタリングターゲット 概要

酸化イッテリビウムスパッタリングターゲット イッテルビウム酸化物スパッタリングターゲットは、優れた化学的安定性とユニークな光学特性を持つ、高精度薄膜蒸着用の高性能材料です。純度99.9%の高性能酸化イッテリビウムスパッタリングターゲット は、均一な膜形成を保証し、不純物の影響を低減し、膜を緻密で安定したものにします。光学機器、レーザー機器、特殊電子機器などに最適です。

弊社では、様々な形状やサイズの酸化イッテリビウムスパッタリングターゲットを提供しており、お客様のご要望に応じてカスタマイズすることも可能です。当社の専門技術チームがサポートし、ターゲット結合サービスも提供いたします。

酸化イッテリビウムスパッタリングターゲットの製品ハイライト

高純度特性により、優れた膜性能を保証します。化学的安定性が高く、様々な複雑な環境下でも膜の安定性を維持することができます。ユニークな光学特性を持ち、光学分野における高性能膜の作製に適しています。カスタマイズ生産に対応
光学機器、レーザー技術、電子機器、その他の分野のコーティングプロセスに適しています。
専門的なターゲット結合と加工能力

用途 酸化イッテリビウムスパッタリングターゲット

光学機器：レンズ、プリズムなどの光学部品に透過率向上膜、高反射率膜などを形成し、光学機器の透過率、反射率などの光学特性を効果的に向上させることができる。

レーザー技術：レーザー装置のコーティングに使用され、レーザーの出力、安定性、寿命を向上させることができる。

電子機器：一部の特殊な電子機器では、機能性フィルムの構成要素として使用することで、独自の電気的・化学的特性を発揮し、デバイスの全体的な性能を高めることができます。

レポート

当社は、分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）およびその他の関連報告書を製品とともに提供しています。また、品質保証を強化するため、第三者機関による試験にも対応しています。