| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 421601ST001 | MoS2 | 99.9% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 421601ST002 | MoS2 | 99.9% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 421601ST003 | MoS2 | 99.95% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 421601ST004 | MoS2 | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 421601ST005 | MoS2 | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 421601ST006 | MoS2 | 99.95% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
硫化モリブデンスパッタリング
ターゲット
は
、優れた化学的安定性と低摩擦特性を備えた高性能二次元材料調製ターゲットであり、高精度薄膜成膜に適しています。半導体
デバイス、耐摩耗性コーティング、光電子
デバイス、新エネルギー材料の成膜に応用可能で、科学研究と工業生産に信頼性の高い材料基盤を提供します。
当社は高純度硫化モリブデンスパッタリングターゲットを複数サイズで提供し、厚さや直径はお客様のご要望に応じてカスタマイズ可能です。サンプルや見積もりについてはお問い合わせください
。
高純度
高密度、安定した性能
優れた薄膜成膜均一性
高温・化学的耐食性
低摩擦特性
ターゲットボンディング
サービス対応
サイズ・形状カスタマイズ可能
半導体
デバイス：高精度導電性・機能性薄膜成膜に使用
耐摩耗コーティング：機械部品表面に耐摩耗膜を形成し寿命を延長
光電子
デバイス：光検出器・太陽電池素子向け機能性薄膜の成膜が可能
新エネルギーデバイス：リチウム電池、太陽電池等の薄膜製造に使用。
質問Q1：製品の包装オプションは？
A1：密封袋、真空包装、カスタマイズ可能な防湿ボックスを提供し、安全な輸送を確保します。
Q2：製品の加工やサイズカスタマイズは可能ですか？
A2：はい、お客様のニーズに応じて切断、穴あけ、厚み調整が可能です。
Q3: MoS2スパッタリングターゲットの保管条件は？
A3: 材料特性への高温・湿度の影響を避けるため、乾燥した冷暗所で保管してください。
各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
化学物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。
豊富な経験： 薄膜ターゲットの研究開発・製造における豊富な実績
厳格な品質管理：高純度・高密度を実現。全ロット製品が厳格な検査を通過
高いカスタマイズ性：サイズ・厚さ・形状に応じたターゲットのカスタマイズが可能
包括的な技術サポート：選定から応用まで全工程における専門的な指導を提供
高性能MoS₂スパッタリングターゲットと包括的な技術サポートをご提供。薄膜成膜品質と生産効率を保証します。
化学式MoS2
分子量： 160.07 g/mol
外観濃灰色、緻密、ブロック状、円盤状または長方形、表面は滑らかなターゲット材
密度: ≈ 5.06 g/cm³
融点: ≈ 1185 °C (不活性雰囲気下、空気中で分解)
沸点：≈ 2200 °C (高温で分解する)
結晶構造六方最密充填結晶系（HCP、層状構造）
内包装：汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装：サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。
