ULPMAT

硫化ケイ素

Chemical Name:
硫化ケイ素
Formula:
SiS2
Product No.:
141600
CAS No.:
13759-10-9
EINECS No.:
237-344-8
Form:
パウダー
HazMat:
Class 4.3 (6.1) / UN3134 / PG II
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
141600PD001 SiS2 99.9% -100 Mesh Inquire
141600PD002 SiS2 99.99% -100 Mesh Inquire
141600PD003 SiS2 99.999% -40 Mesh Inquire
141600PD004 SiS2 99.999% -60 Mesh Inquire
141600PD005 SiS2 99.999% -100 Mesh Inquire
Product ID
141600PD001
Formula
SiS2
Purity
99.9%
Dimension
-100 Mesh
Product ID
141600PD002
Formula
SiS2
Purity
99.99%
Dimension
-100 Mesh
Product ID
141600PD003
Formula
SiS2
Purity
99.999%
Dimension
-40 Mesh
Product ID
141600PD004
Formula
SiS2
Purity
99.999%
Dimension
-60 Mesh
Product ID
141600PD005
Formula
SiS2
Purity
99.999%
Dimension
-100 Mesh

硫化ケイ素粉末の概要

硫化ケイ素
粉末

、優れた化学的・熱的安定性を備えた高純度硫化ケイ素粉末です。機能性薄膜、電子デバイス材料、化学研究など幅広い用途で使用されています。

当社はプロセス適合性のある硫化ケイ素粉末を提供し、粒子径、プロセスパラメータ、応用方向に関する技術相談をサポートします。今すぐお問い合わせください

製品特長

高い化学的安定性
優れた熱安定性
流動性に優れた均一な粉末
各種成膜・加工技術に対応
薄膜・コーティング・デバイス材料用途をサポート

シリコン硫化物粉末の応用

機能性薄膜作製:
SiS粉末は電子機能薄膜や保護コーティングの作製に利用でき、材料性能と成膜均一性を向上させます。
電子デバイス材料:
半導体デバイスや機能層の成膜に使用され、デバイス性能の安定性と均一性を向上させます。
化学研究・新素材開発:
硫化ケイ素材料の研究開発や化学反応研究における基礎原料として活用可能です。
科学研究・プロセス検証:
新素材・薄膜プロセスの研究開発、パラメータ最適化・検証を支援。

よくある質問

Q1:硫化ケイ素粉末の主な用途は?
A1:主に機能性薄膜、電子デバイス材料、化学研究・新素材開発に用いられます。

Q2:SiS粉末は高温で安定ですか?
A2: 適切な条件下では良好な熱安定性を示しますが、湿潤環境は避けてください。

Q3: 粉末形態は薄膜性能に影響しますか?
A3: 均一で安定した粉末形態は、薄膜成膜と加工の一貫性向上に寄与します。

Q4: SiS粉末は直接薄膜成膜に使用できますか?
A4: はい、機能性薄膜やコーティングの原料として適しています。

報告書

各バッチには以下が付属します:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
安全データシート(MSDS)
第三者試験報告書

ご要望に応じて提供

)当社を選ぶ理由

当社は高性能硫化ケイ素粉末の供給を専門とし、安定したトレーサブルな硫化ケイ素粉末を提供することで、お客様の研究開発およびプロセス応用における高い一貫性と信頼性の実現を支援します。

分子式:SiS2
分子量:78.16 g/mol
外観黄色~淡黄色粉末
密度:2.61 g/cm³
融点:1090 °C
沸点:1477 °C (昇華)
結晶構造正方晶(鎖状構造)

危険表示語:
危険

危険性情報:

H261:水と接触すると可燃性ガスを発生する
H300:飲み込むと致命的である
H315:皮膚刺激を引き起こす
H319:深刻な眼刺激を引き起こす
H335:呼吸器刺激を引き起こす可能性がある

内包装:湿気・漏洩防止のため二重密封プラスチック袋またはアルミ箔袋。
外包装:重量に応じ鉄ドラムまたはファイバードラム、補強密封蓋付き。
危険物包装:危険物輸送規制に準拠した国連認定包装。

資料

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