炭化ホウ素

炭化ホウ素スパッタリングターゲット概要

炭化ホウ素
スパッタリングターゲット
は
、超高硬度・化学的に安定したセラミックターゲットであり、超硬質薄膜や機能性コーティングの作製に適しています。主に電子部品、光学保護、複合薄膜の成膜に使用されます。

研究用途から産業用途まで対応するため、様々なサイズ・厚さ・バックプレーン構成のカスタマイズB4Cスパッタリングターゲットを提供しています。お見積りや技術サポート
については直接お問い合わせ
ください。

製品特長

超高硬度ターゲット
均一かつ安定した組成
制御可能なスパッタリング速度
RFスパッタリング対応
銅またはその他バックプレーンへの接合可能
研究開発およびパイロットスケール生産に適応

ホウ素カーバイドスパッタリングターゲットの用途

超硬薄膜形成：高硬度薄膜の形成に使用可能。コーティングの耐摩耗性および耐衝撃性を向上。
光学
・保護コーティング：光学部品や保護コーティングに適し、表面硬度と耐食性を向上させます。
電子・機能性材料成膜：電子デバイスや機能性薄膜の成膜が可能で、均一性と再現性を確保します。
薄膜プロセスパラメータ最適化：RFスパッタリングプロセスの開発とパラメータ検証に適し、電力・雰囲気・成膜速度の最適化を支援。

よくある質問

Q1: カスタム非標準サイズに対応していますか？
A1: はい、装置サイズとプロセス要件に基づき加工可能です。

Q2: ターゲットをバックプレートに接着できますか？
A2: はい、銅またはその他の金属バックプレートを接合し、放熱性と動作安定性を向上させることが可能です。

Q3: どのスパッタリング法に適していますか？
A3: RFスパッタリングに適しています。セラミックターゲットは高電力下でも優れた安定性を示します。

Q4: サンプルまたは小ロット注文は可能ですか？
A4: はい、研究段階やプロセス検証段階のニーズに対応します。

報告書

各ロットに付属：

分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

安全データシート（MSDS）

寸法検査報告書
第三者試験報告書

（

ご要望に応じて提供

）
当社を選ぶ理由

セラミックスパッタリングターゲットの研究開発・供給を専門とし、安定したロット供給、カスタマイズ仕様、技術サポートを提供します。お客様のニーズに迅速に対応し、研究開発から工業生産までを円滑に進めるお手伝いをいたします。