炭化ジルコニウム

ジルコニウムカーバイドスパッタリングターゲット概要ジルコニウムカーバイドスパッタリングターゲットは

、高性能薄膜成膜用に設計された先進的なセラミック・金属複合材料です。優れた熱安定性、高硬度、良好な電気伝導性を備えたZrCターゲットは、研究用および産業用PVDシステムの両方で、均一で緻密かつ密着性の高いコーティングを実現します。

当社のZrCターゲットは、高温プレスまたはスパークプラズマ焼結（SPS）により製造され、高密度、低気孔率、優れた機械的強度を実現しています。平面、回転、ボンディング、カスタム形状など多様な形状を用意し、様々な真空コーティング装置の要求に対応します。

製品特長

高純度
低不純物含有量
高密度
低気孔率
良好な電気伝導性
DC/RFマグネトロンスパッタリングプロセス対応
形状・寸法のカスタマイズ可能
平面、回転、段付き、ボンディングターゲットを専用取付オプションで提供

ZrCスパッタリングターゲットの用途

ハードコーティング：耐摩耗性、耐侵食性、高温表面処理に適用
機能性セラミック膜：導電性、耐火性、高硬度コーティングに最適。
マイクロエレクトロニクス＆センサー：拡散バリア、導電層、高温電子部品に適する。
光学
・赤外線コーティング：IRおよび可視光スペクトル用途向け、耐久性・高性能フィルムを実現。

よくある質問

Q1: ZrCターゲットの形状・フォーマットは？
A1: 平面ディスク、プレート、ステップターゲット、回転チューブ、CuまたはAl裏打ちプレート付きボンデッドターゲットを提供しています。カスタム形状も設計可能です。

Q2: ZrCターゲットは高出力スパッタリングで動作可能ですか？
A2: はい。優れた熱伝導性、硬度、機械的強度により、高出力条件下でも安定した成膜が可能です。

Q3: ZrCターゲットの保管方法は？
A3: 乾燥した密閉環境で保管してください。表面酸化を防ぐため、湿気や腐食性ガスを避けてください。

Q4: 合金組成や密度は調整可能ですか？
A4: ZrCは通常化学量論セラミックスですが、お客様のスパッタリングシステムに合わせて密度、厚さ、接合方法をカスタマイズ可能です。

報告書

各ロットには以下が付属します：
分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

製品安全データシート（MSDS）
ご要望に応じて第三者試験報告書も提供可能

当社ZrCスパッタリングターゲットを選ぶ理由

一貫した膜品質：微粒子発生が少なく均一な侵食により、滑らかで高密度のコーティングを実現。
カスタマイズ製造：お客様の成膜装置に合わせた形状・厚さ・接合方法を提供。
技術サポート：
スパッタリングパラメータ、ターゲット設置、薄膜最適化に関するガイダンスを提供。
品質保証：各ターゲットは純度、密度、微細構造、電気的特性の試験を実施。
信頼性の高い供給・納品：安定した生産と在庫により、研究開発および生産ニーズに対応した迅速な納品を実現。