一酸化コバルト（酸化コバルト）

一酸化コバルトスパッタリングターゲット概要一

酸化コバルトスパッタリング
ターゲット

は

、優れた磁気的・化学的安定性を備えた高純度酸化コバルトターゲットであり、磁性薄膜、電池、電子デバイスの成膜に広く使用されています。

各種サイズ・結晶形態・純度グレードのCoOスパッタリングターゲット
を提供し、サンプル試験や技術相談をサポートします。詳細情報や応用提案についてはお問い合わせ
ください。

製品特長

緻密で均一な結晶

構造

優れた磁気安定性

卓越した熱安定性

耐摩耗性・耐食性に優れる

多様なスパッタリングプロセスに対応

サイズ・結晶形態のカスタマイズが可能

厳格なロット間均一性管理

柔軟な納期設定

科学研究実験やプロセス開発との連携が可能

一酸化コバルトスパッタリングターゲットの応用

磁性薄膜作製：
磁気記憶装置、センサー、マイクロ電子デバイス向け高性能磁性薄膜の作製に適し、安定した磁気特性を保証。

電子デバイス成膜：
電子デバイスにおける薄膜成膜に使用され、デバイスの機能安定性と信頼性を向上。

電池材料薄膜：
リチウムイオン電池やその他のエネルギーデバイス向け正極薄膜の作製に使用でき、電池容量とサイクル性能を向上させます。

研究・プロセス開発：
研究機関や企業の研究開発部門で、材料性能試験やプロセスパラメータの最適化に広く使用されています。

よくある質問

Q1：一酸化コバルトスパッタリングターゲットはどのスパッタリングプロセスに適していますか？
A1: マグネトロンスパッタリング、RFスパッタリング、DCスパッタリング装置に適しています。電力とターゲットサイズに応じて仕様を選択可能です。

Q2: ターゲットの結晶形はカスタマイズ可能ですか？
A2: はい、お客様のニーズに応じて異なる結晶形のターゲットを提供し、用途の性能要件を満たします。

Q3: スパッタリング中にターゲットは割れや気孔が生じやすいですか？
A3: 高密度冶金プロセスで製造され、結晶粒が均一であるため、割れや気孔の発生リスクを効果的に低減します。

Q4: ターゲット保管時の注意点は？
A4: 性能安定性を維持するため、乾燥した換気の良い環境で保管し、湿気・汚染・長時間の空気接触を避けてください。

報告書

各ロットに付属：

分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

安全データシート（MSDS）

サイズ検査報告書

第三者試験報告書

（

ご要望に応じて提供

）当社を選ぶ理由

当社は高純度酸化コバルトスパッタリングターゲット
の研究開発と安定供給を専門としています。
包括的な品質管理システムと柔軟なカスタマイズ能力により、科学研究から産業応用まで対応可能な信頼性・トレーサビリティに優れたターゲットソリューションを提供し、プロジェクトの効率的な推進を支援します。