ULPMAT

一酸化ケイ素

Chemical Name:
一酸化ケイ素
Formula:
SiO
Product No.:
140800
CAS No.:
10097-28-6
EINECS No.:
233-232-8
Form:
顆粒
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
140800GN001 SiO 99.9% 3 mm - 6 mm Inquire
140800GN002 SiO 99.9% 0.2 mm - 0.5 mm Inquire
140800GN003 SiO 99.9% 4 mm - 8 mm Inquire
140800GN004 SiO 99.99% 3 mm - 8 mm Inquire
Product ID
140800GN001
Formula
SiO
Purity
99.9%
Dimension
3 mm - 6 mm
Product ID
140800GN002
Formula
SiO
Purity
99.9%
Dimension
0.2 mm - 0.5 mm
Product ID
140800GN003
Formula
SiO
Purity
99.9%
Dimension
4 mm - 8 mm
Product ID
140800GN004
Formula
SiO
Purity
99.99%
Dimension
3 mm - 8 mm

一酸化ケイ素顆粒の概要

一酸化ケイ素
顆粒

、薄膜成膜や材料研究で一般的に使用されるケイ素系亜酸化物材料の一種です。化学的・物理的特性は二酸化ケイ素とケイ素の中間的な性質を示します。粒状形態は粉末に比べ供給制御性に優れ、蒸着成膜や関連成膜プロセスに適しています。

当社は様々な仕様の一酸化ケイ素顆粒を提供し、お客様の装置やプロセス要件に基づいたカスタマイズ
をサポートします。 蒸発装置との適合性や後続プロセスへの応用については、お問い合わせ
ください。

製品の特徴

・化学的性質が安定したシリコン系亜酸化物材料
・供給制御が容易な粒子形態
・蒸着などの成膜プロセスに適応
・成膜プロセスの再現性向上
・研究用途から産業用途まで対応可能

シリコンモノオキシド顆粒の応用例

蒸着プロセス:
光学・機能性シリコン酸化物薄膜の作製に蒸発源材料として広く使用。
光学・機能性薄膜:
光制御や機能性コーティング分野において、一酸化ケイ素薄膜は幅広い研究・応用価値を有します。
材料・プロセス研究:
様々な成膜条件下における薄膜の構造・特性研究に適しています。

よくある

質問Q1: 蒸着成膜に粉末ではなく一酸化ケイ素粒子を選ぶ理由は?
A1: 粒子形状により供給プロセス制御性が向上し、飛散低減と成膜安定性の改善が図れます。

Q2: 一酸化ケイ素粒子はどの成膜装置に適していますか?
A2: 熱蒸着や電子線蒸着など、一般的な薄膜成膜装置に適しています。

Q3: SiO粒子の保管・輸送時の注意点は?
A3: 密封された乾燥した清潔な環境での保管を推奨します。湿気や酸化を避け、材料性能の安定性を維持してください。

Q4: 二酸化ケイ素粒子の仕様はカスタマイズ可能ですか?
A4: お客様の装置タイプやプロセス要件に応じて、異なる仕様またはカスタマイズされたSiO粒子製品を提供可能です。

報告書

各ロットに付属:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
安全データシート(MSDS)
第三者試験報告書

ご要望に応じて提供

)当社を選ぶ理由

当社は薄膜成膜用シリコン系材料および機能性材料の供給を専門とし、品質管理とアプリケーションサポートにおいて豊富な経験を有しています。研究機関および産業顧客に対し、安定性と信頼性を兼ね備えた一酸化ケイ素粒子製品を提供可能です。

分子式:SiO
分子量:44.09 g/mol
外観茶褐色の顆粒
密度:2.13 g/cm³
融点:1460 °C(分解する)
結晶構造非晶質/アモルファス

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。

SKU 140800GN カテゴリー タグ ブランド:

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