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ホウ化マグネシウム

Chemical Name:
ホウ化マグネシウム
Formula:
MgB2
Product No.:
120500
CAS No.:
12007-25-9
EINECS No.:
234-501-2
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
120500ST001 MgB2 99% Ø 50.8mm x 6.35mm Inquire
Product ID
120500ST001
Formula
MgB2
Purity
99%
Dimension
Ø 50.8mm x 6.35mm

ホウ化マグネシウムスパッタリングターゲット概要

ホウ化マグネシウム
スパッタリングターゲットは、主にホウ化マグネシウムで構成される機能性セラミックターゲットであり、優れた熱安定性と構造的信頼性を示します。これらのターゲットは、機能性薄膜、高温コーティング、関連材料などの研究分野における薄膜成膜に適しています。

各種サイズ・厚さ・密度制御のホウ化マグネシウムスパッタリングターゲットを提供し、カスタム加工・技術相談に対応します。お見積りは直接お問い合わせ
ください。

製品特長

・金属ホウ化物の安定した構造
・高ターゲット密度によるスムーズなスパッタリングプロセス
・優れた耐熱性
・平滑な表面と良好な膜均一性
・多仕様対応のカスタム加工
・研究開発および小ロット生産に適応

ホウ化マグネシウムスパッタリングターゲットの用途

機能性薄膜成膜:均一な組成の機能性薄膜を調製可能。高品位・高安定性が求められる用途に対応。
高温コーティング形成:高温環境や保護コーティングにおいて、熱条件下での膜構造安定性を向上させるために使用されます。
電子・機能性材料研究:電子材料および関連機能性材料の薄膜研究に適しており、プロセスパラメータ調整や性能評価を容易にします。
科学研究・プロセス検証:
実験室およびパイロットスケール段階におけるスパッタリングプロセス検証を支援し、新素材薄膜の迅速な展開を促進します。

よくある質問

Q1: ホウ化マグネシウムスパッタリングターゲットに適した装置は?
A1: RFスパッタリングおよび関連マグネトロンスパッタリング装置に適し、科学研究から産業応用までのニーズに対応します。

Q2: ターゲット密度は膜品質に影響しますか?
A2: 高密度化により粒子剥離リスクを低減し、膜の均一性と安定性を向上させます。

Q3: 装置要件に応じたターゲットサイズのカスタマイズは可能ですか?
A3: はい、円形・方形・その他特殊仕様のカスタマイズ加工に対応します。

Q4: ターゲットの保管・使用時の注意事項は?
A4: 密閉容器にて乾燥した清潔な環境での保管を推奨します。 使用前にはターゲット表面を清潔に保ってください。
各バッチには以下の書類を

添付

分析証明書(COA)

技術データシート(TDS)

安全データシート(MSDS)

サイズ検査報告書
第三者機関による試験報告書はご要望に応じて提供可能です

当社を選ぶ理由

当社は長年、金属ホウ化物スパッタリングターゲットの調製と品質管理に注力し、安定した信頼性の高い製品と迅速な技術サポートを提供することで、お客様の薄膜成膜と応用検証の効率的な完了を支援しています。

分子式:MgB2
分子量:45.93 g/mol
外観灰黒色の緻密なターゲット
密度:2.57-2.60 g/cm³(緻密度)
融点:830 °C(分解する)
結晶構造六方晶系(AlB2型構造)

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。

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