フッ化セリウム

フッ化セリウムスパッタリングターゲットの概要

フッ化セリウムスパッタリングターゲットは、高性能薄膜成膜プロセス用に設計されています。極めて高い純度と優れた材料密度を有し、均一な膜形成、強固な密着性、極めて低い不純物含有量を保証します。このターゲットは、精密光学コーティング、機能性コーティング、電子デバイス製造に適しており、厳しいプロセス要件を満たします。

高純度フッ化セリウムスパッタリングターゲットは、円形や長方形など様々な形状やサイズを取り揃えており、お客様のご要望に応じてカスタマイズすることが可能です。同時に、当社は完全なアフターセールス・サポート・チームを備えており、使用中の技術的な質問やニーズをいつでも解決することができます。

製品ハイライト

純度：99.95%-99.995
高密度で均一かつ安定した成膜が可能
お客様のニーズに応じてサイズや形状をカスタマイズ可能
ターゲット結合サービスあり
光学コーティング、電子デバイス、高性能コーティングに最適

フッ化セリウムスパッタリング用ターゲットの用途

光学コーティングCeF3は、高屈折率反射防止膜、紫外線透過膜およびその他の機能性光学コーティングの調製に使用される。
電子デバイス: 半導体デバイスやフラットパネルディスプレイの薄膜成膜に使用される。
機能性コーティング：耐摩耗性、耐腐食性、保護コーティングにおいて重要な役割を果たす。
レーザー材料：CeF3は、レーザー関連光学部品の薄膜材料として使用され、レーザーの性能と安定性を向上させる。

レポート

当社は、フッ化セリウムスパッタリングターゲットの各バッチについて、詳細な分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）および関連する品質報告書を提供します。製品の品質と性能の信頼性を確保するため、第三者試験サービスをサポートしています。