フッ化アルミニウム／フッ化マグネシウム

フッ化アルミニウムマグネシウムスパッタリングターゲット 概要

フッ化アルミニウムマグネシウムスパッタリングターゲットは、真空蒸着産業における光学コーティング、反射防止層、保護膜用に設計された高性能フッ化物系複合ターゲットです。MgF₂の優れたUV透明性と耐薬品性、AlF₃の優れた膜均一性と耐エッチング性を組み合わせたこの複合ターゲットは、多層薄膜スタックにおける屈折率、膜形態、密着性の精密な制御を可能にします。

当社の フッ化アルミニウム/フッ化マグネシウムターゲットは、高密度、均質性、強力な機械的安定性を確保するために、ホットプレス、真空焼結、または冷間静水圧プレス（CIP）法を使用して製造されます。また、包括的なアフターサービスも提供しております。 お問い合わせお問い合わせください。

製品ハイライト

• 高純度：99.9%以上で、優れたフィルム品質と光学性能を保証します。
• 優れたフィルム特性強力な密着性により、均一で透明度の高い皮膜を形成します。
• カスタマイズ可能な仕様：様々なサイズ、形状、組成があり、特定の装置要件に対応可能。
• 低い不純物含有量光学コーティング、ディスプレイ技術、レーザーシステム、先端エレクトロニクスに最適。

用途 フッ化アルミニウムマグネシウム スパッタリングターゲット

光学コーティング：反射防止膜、誘電体ミラー、紫外-赤外光学系のビーム分割層に使用
フォトニックデバイス低損失導波路とフィルターの製造
ディスプレイ技術：LCD/LED/OLEDディスプレイ用コーティング
保護層センサーや光学窓用の透明ハードコーティング
紫外線および真空紫外線（VUV）オプティクス：深紫外線システムに適したフッ化物層

レポート

各ターゲットは、純度、組成比、密度、寸法を検証した分析証明書（COA）とともに納品されます。ご要望に応じて、XRD位相分析、SEM画像、スパッタリング均一性試験などの追加検査も可能です。

弊社を選ぶ理由

信頼性の高いフッ化マグネシウムアルミニウムスパッタリングターゲットサプライヤーとして、優れた密度、低不純物含有量、安定したスパッタリング性能を持つ高純度AlF3-MgF2ターゲットをお届けします。当社の製品は、光学コーティング、レーザーシステム、先端エレクトロニクス用に設計されており、均一な膜と優れた接着性を保証します。カスタマイズ可能な寸法、厳格な品質管理、グローバルでコンプライアンスに準拠したデリバリーにより、お客様の重要な薄膜蒸着プロセスに一貫した信頼できる供給を提供します。