ビスマス・フェライト

ビスマスフェライトスパッタリングターゲットの概要

ビスマス・フェライトスパッタリングターゲットは、高度な機能性薄膜形成プロセス用に設計された高性能材料です。優れた密度と相純度を有し、成膜時の均一性、良好な密着性、安定したマルチフェロイック特性を保証し、強誘電体、圧電体、磁電体デバイスの開発に広く使用されています。

ビスマスフェライトターゲットは、円形や長方形など様々な形状やサイズを取り揃えており、お客様のご要望に応じてカスタマイズすることも可能です。また、包括的なアフターサービスも提供しております。ご使用中にご不明な点がございましたら、お気軽に ご連絡ください。.

製品ハイライト

純度：99.95
精密コーティングに適した高密度、緻密な構造
カスタマイズ可能 サイズと形状
ターゲット結合サービスあり
機能性酸化物研究、強誘電体/磁性体デバイス、薄膜マルチフェロイック材料に最適

ビスマスフェライトターゲットの用途

機能性デバイス研究代表的なマルチフェロイック材料として、強誘電効果や磁電効果などの基礎研究に広く利用されている。
不揮発性メモリ強誘電体ランダムアクセスメモリ（FeRAM）の機能層材料として使用される。
スピントロニクス：磁気的・電気的結合特性により、磁電結合デバイスへの応用が期待される。
薄膜センサー：安定した性能を持つ圧電センサーや光電センサーの機能性フィルム層。

レポート

出荷毎に分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）、その他関連レポートを提供します。また、品質保証強化のための第三者試験にも対応しています。