バリウム・フェライト

バリウムフェライトスパッタリングターゲット 概要

バリウムフェライト スパッタリングターゲットは、磁性薄膜成膜プロセス用に特別に設計された高性能材料です。純度99.9%、優れた密度と磁気特性を誇り、蒸着膜の均一な構造と優れた磁気性能を保証します。

バリウムフェライトスパッタリングターゲットは、円形や長方形を含む様々な形状やサイズで提供しており、お客様の特定の要件に合わせてカスタマイズすることも可能です。また、総合的なアフターサービスも提供しております。ご使用中にご不明な点がございましたら、お気軽にご連絡ください。

製品ハイライト

純度：99.9
高密度で均一な成膜が可能
優れた磁気特性、高性能磁性薄膜成膜に最適
ターゲットボンディング 使用可能
多様なプロセス要件に対応するため、サイズおよび形状のカスタマイズが可能

バリウムフェライトターゲットの用途

磁気記録媒体高密度磁気ストレージデバイスの磁性薄膜の成膜に使用されます。
マイクロ波デバイスフェライトマイクロ波吸収層およびフィルター材料の製造に使用されます。
センサー磁気センサーや磁気部品用の機能性薄膜の製造に使用されます。
電磁シールド電磁両立性(EMC)・電磁干渉(EMI)シールド材に使用されます。

レポート

詳細な 分析証明書（COA）BaFe₁O₁₉スパッタリングターゲットの各バッチについて、詳細な分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）、およびその他の関連試験報告書を提供します。製品の品質と信頼性を確保するため、第三者機関による試験をサポートします。