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ニッケル・アルミニウム合金

Chemical Name:
ニッケル・アルミニウム合金
Formula:
NiAl
Product No.:
281301
CAS No.:
12635-27-7
EINECS No.:
682-897-4
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
281301ST001 NiAl 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
281301ST002 NiAl 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
281301ST001
Formula
NiAl
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
281301ST002
Formula
NiAl
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

ニッケルアルミニウム合金スパッタリングターゲット概要

ニッケルアルミニウム合金
スパッタリングターゲットは

高純度ニッケルアルミニウム合金材料であり、主に機能性薄膜の成膜および高性能電子デバイスの製造に使用されます。

当社は様々なサイズ、厚さ、構造のNiAlスパッタリングターゲットを提供し、装置マッチングと技術指導をサポートします。 カスタマイズソリューションについてはお問い合わせください

製品の特長

高純度・高安定性
高ターゲット密度
良好な膜均一性
安定した放電性能
各種スパッタリング装置に対応可能
カスタマイズ可能なボンディング
・バックプレーン
高いロット間均一性

ニッケルアルミニウム合金スパッタリングターゲットの用途

電子デバイス用薄膜成膜:導電性または機能性薄膜の作製に利用可能。電子デバイスにおける安定した性能と膜均一性を確保。
高温機能性薄膜:高温用途における薄膜成膜に適し、膜の耐熱性と構造安定性を向上させます。
複合材料コーティング:多層複合材料に機能層を成膜でき、複合材料の導電性と熱安定性を向上させます。
科学研究・プロセス開発:NiAlターゲットは薄膜プロセス実験や新素材開発に適し、研究開発段階での再現性ある成膜結果の達成を支援します。

よくある質問

Q1: NiAlスパッタリングターゲットは主にどの分野で使用されますか?
A1: 電子デバイス、機能性薄膜、高温薄膜、科学研究実験などで一般的に使用されます。

Q2: NiAlターゲットは異なるスパッタリング装置に対応できますか?
A2: はい、主流のスパッタリングシステムに対応するため、様々なサイズと構造を提供しています。

Q3: ターゲットはスパッタリング中に問題を起こしやすいですか?
A3: 高密度ターゲットは放電安定性を確保し、スパッタリング中の不均一な堆積リスクを低減します。

Q4: NiAlスパッタリングターゲットはどのように保管すべきですか?
A4: ターゲット性能を維持するため、衝撃や湿気を避け、乾燥した密閉容器での保管をお勧めします。

報告書

各ロットには以下を添付:

分析証明書(COA)

技術データシート(TDS)

安全データシート(MSDS)

サイズ検査報告書
第三者試験報告書

ご要望に応じて提供


当社を選ぶ理由

高性能スパッタリングターゲットにおける豊富な経験を有し、安定したNiAlターゲット品質とカスタマイズサービスを提供。包括的な技術サポートにより、電子デバイスや薄膜応用分野において安定した効率的な成膜結果の実現を支援します。

分子式NiAl
外観銀白色または灰白色の粉末
結晶構造立方晶構造

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木製クレートを選択します。

資料

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