ニッケル鉄酸化物
スパッタリングターゲットは、主に磁性酸化物薄膜および関連機能層の成膜に使用されるスピネル構造の酸化物ターゲットです。
当社は高密度で組成が安定したNiFe2O4スパッタリングターゲットを提供し、サイズと構造のカスタマイズに対応しています。技術仕様についてはお問い合わせ
ください。
安定したスピネル相構造
高ターゲット密度
良好な膜組成均一性
酸化物スパッタリングプロセスに適応
優れた熱安定性
ボンディング
・バックプレーンのカスタマイズ対応
カスタム加工
磁性酸化物薄膜：フェライト系磁性薄膜の成膜に広く使用され、高い磁気応答安定性と再現性が求められる用途に適しています。
電子・機能デバイス：特定の磁気電気特性を有する酸化物機能層を形成し、電子デバイスや機能材料に適用。
センシング・磁気制御材料：磁気応答性または関連制御材料薄膜の作製に使用可能。制御可能な膜構造と性能要件を満たす。
研究・プロセス開発：研究機関における酸化物薄膜構造制御、スパッタリングパラメータ最適化、新素材探索の実験用途に適しています。
Q1: NiFe2O4スパッタリングターゲットにはどのスパッタリング法が適していますか？
A1: 従来型マグネトロンスパッタリングプロセスで使用可能です。具体的な方法は装置条件に基づき確認が必要です。
Q2: ターゲットに特別な前処理は必要ですか？
A2: 通常、複雑な前処理は不要です。従来の酸化物ターゲットの操作で十分です。
Q3: 堆積膜の組成は安定していますか？
A3: 適切なプロセスパラメータ下では、膜組成はターゲットと良好な一致性を維持します。
Q4: 研究用途向けの小型サイズ仕様は対応可能ですか？
A4: はい、研究開発・実験段階に適した各種サイズオプションを提供可能です。
各バッチに付属：
寸法検査報告書
第三者試験報告書
ご要望に応じて提供
酸化物スパッタリングターゲットの調製・加工において豊富な経験を有し、構造安定性・プロセス適応性・品質均一性を重視。磁性薄膜や機能性デバイス応用において信頼性の高いサポートを提供します。
分子式NiFe₂O₄（ニッケルフェライト
分子量：231.53 g/mol
外観表面が滑らかな黒色または暗褐色のターゲット材
密度約5.2 g/cm³
融点約1,550°C
沸点分解点：約2,500
結晶構造スピネル構造
内包装：汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装：サイズと重量に基づき、カートンまたは木製クレートを選択します。
