ニオブアルミニウム合金スパ
ッタ
リング
ターゲット
、物理的気相成長(PVD)プロセス向けに特別設計された高純度・高密度のニオブ-アルミニウム合金ターゲットであり、均一で高性能な金属薄膜の形成を可能にします。電子デバイス、高温合金コーティング、装飾用フィルム、導電層堆積など幅広い用途で使用されています。
当社は高純度・均一密度・平滑表面仕上げの各種NbAlスパッタリングターゲットを提供。サイズ・厚さ・形状は顧客要求に応じてカスタマイズ可能で、科学研究から工業生産まで対応します。お問い合わせください。
高純度NbAl合金(99.9%)
均一高密度構造と高機械的強度
優れた膜密着性と耐熱性
滑らかで無孔質の表面
サイズ・厚さ・形状のカスタマイズ対応
ターゲット利用効率の向上
ターゲットボンディングサービス提供
科学研究・産業用PVD応
デバイス薄膜:マイクロエレクトロニクス部品向け導電性薄膜の成膜に使用され、安定した性能を確保。
高温合金コーティング:高温環境下での材料耐久性向上を目的とした表面保護コーティング。
装飾膜:金属表面への光沢・密着性向上を目的とした装飾コーティング。
導電層成膜:タッチスクリーン、センサー、透明電子デバイス向け導電膜。
Q1: NbAlスパッタリングターゲットの包装オプションは?
A1: 防湿密封包装、真空袋包装、硬質箱包装をご用意しています。輸送・保管時のターゲット品質を確保するため、お客様のご要望に応じたカスタマイズが可能です。
Q2: NbAlスパッタリングターゲットはどのような加工が可能ですか?
A2: 切断、穴あけ、研磨、機械加工が可能です。様々なPVDプロセスや科学研究実験のニーズに対応します。
Q3: NbAlスパッタリングターゲットの保管条件は?
A3: 乾燥した涼しい換気の良い環境で保管し、湿気・高温・化学的汚染を避けてください。長期保管には不活性ガスまたは密封包装が推奨されます。
Q4: NbAlスパッタリングターゲットの純度と利点は?
A4: 当社のNbAlスパッタリングターゲットは純度≥99.9%、均一な密度、優れた熱安定性を有し、高密着性の薄膜を形成します。これにより研究・産業分野における高精度PVD用途に適しています。
:各ロットに以下を提供:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
安全データシート(MSDS)
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。
・高純度NbAl合金ターゲット:信頼性と安定性に優れる
・サイズ・厚さ・形状・表面処理の
カスタマイズ対応
・完全な試験報告書と適合証明書を提供
・小ロット研究用から大ロット産業用まで迅速に対応
・専門技術チームによる薄膜成膜・プロセス指導
・豊富な輸出実績と安全確実な輸送体制
化学式NbAl
分子量: 119.89 g/mol
外観銀灰色の緻密なターゲット材
密度: ≈ 6.5-6.7 g/cm³(密度による)
結晶構造体心立方構造(NbAl B2相、CsCl型)
内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。