テルル化ビスマス

テルル化ビスマス スパッタリングターゲットの概要

テルル化ビスマス スパッタリングターゲットは、薄膜蒸着プロセス用に設計された高性能材料で、熱電分野で広く使用されています。優れた熱電特性と適度な機械的強度により、熱電発電や冷却装置に最適です。ビスマス(III)テルライドスパッタリングターゲットは、高純度条件下で均一な成膜、強固な密着性、極めて低い不純物含有量を保証します。

製品ハイライト

純度：99.9%～99.999
熱電性能：熱電発電および冷却装置用の優れた熱伝導性
高密度：膜の均一性と信頼性の高い電気性能を確保
カスタマイズ可能 サイズと形状：さまざまなプロセス要件に対応する多様な仕様を提供
ターゲット・バインディング・サービスあり

ビスマステルル スパッタリングターゲットの用途

熱電材料：Bi2Te3は、熱電発電や冷却に最もよく使用される半導体材料の一つです。
半導体デバイス：温度センサー、光検出器、赤外線検出器に広く使用されています。
光学 コーティング：効率的な薄膜材料を調製し、光学デバイスの性能を向上させるために使用できる。
熱電冷却システム高性能サーモエレクトリック・クーラーおよび冷却装置用で、安定した温度制御を提供します。

レポート

当社は、製品が国際的な品質基準を満たしていることを保証するため、各バッチのビスマステルル スパッタリングターゲットについて、分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）およびその他の関連レポートを提供します。同時に、品質保証をさらに強化するために、第三者試験もサポートしています。