チタン酸ストロンチウム（酸化チタンストロンチウム）

ストロンチウムチタン酸酸化物スパッタリングターゲット概要

ストロンチウムチタン酸酸化物
スパッタリングターゲットは

、

優れた熱安定性、化学的不活性、均一な電気的特性を備えた高純度セラミックターゲットです。電子薄膜成膜、機能性酸化物デバイス、高性能セラミックコーティングの製造に広く使用されています。

当社はDC、RF、マグネトロンスパッタリング装置のニーズに応えるため、様々な仕様、サイズ、純度グレードのSrTiO3スパッタリングターゲットを提供しています。サンプルやカスタムサービスについてはお問い合わせ
ください。

製品の特長

高純度
高密度、低気孔率
優れた熱膨張係数適合性
均一な電気的・光学的特性
DC/RF/マグネトロンスパッタリングに適応
高安定性、長寿命
ターゲットボンディング対応
サイズ・形状のカスタマイズ対応
優れたロット間均一性

酸化チタンストロンチウム（

SrTiO3

）スパッタリングターゲットの応用分野

電子薄膜成膜：高品質なSrTiO3薄膜の作製に使用され、デバイスの性能と安定性を向上させます。
機能性酸化物デバイス：多層酸化物コンデンサ、抵抗器、センサー材料の薄膜作製に利用可能です。
セラミックコーティング：セラミックコーティング材料として、機械的強度と熱安定性を高めます。
科学材料開発：強誘電体、圧電体、光電子材料の研究開発において均一で信頼性の高い成膜基盤を提供。

よくある質問

Q1：SrTiO3スパッタリングターゲットは全てのスパッタリング装置で直接使用可能ですか？
A1：本ターゲットはDC、RF、マグネトロンスパッタリングに対応しますが、装置の電力及び真空条件に応じて適切な仕様を選択してください。

Q2: ターゲットの密度と気孔率は成膜効果に影響しますか？
A2: はい。高密度・低気孔率のターゲットは均一な成膜と安定したスパッタリングレートを確保し、膜品質を向上させます。

Q3: ターゲットの輸送・保管時の注意点は？
A3: 湿気や機械的損傷を避けるため、乾燥・遮光・耐衝撃環境で保管してください。

Q4: 異なるロット間のターゲット性能の一貫性を確保するには？
A4: 各ロットのスパッタリングターゲットは厳格な化学組成・密度試験を実施し、寸法・密度・スパッタリング性能の一貫性を保証します。各ロットには

以下の

報告書を添付：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
化学物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書（要請求

）当社を選ぶ理由

当社は成熟したSrTiO3スパッタリングターゲット製造プロセスと厳格な品質管理システムを有し、高純度・高密度・安定したターゲットと専門的な技術サービスを提供します。これにより、薄膜作製や機能性デバイス開発における材料の信頼性の高い応用を実現し、研究・産業用途における最適なパートナーとなっています。