タンタル酸リチウム

タンタル酸リチウムスパッタリングターゲット概要

タンタル酸リチウム
スパッタリングターゲット

は

、高密度で均質な機能性材料ターゲットであり、薄膜製造、光電子デバイス研究、圧電デバイス研究に使用されます。表面弾性波（SAW）デバイス、光
変調器、マイクロエレクトロニクス機能薄膜成膜に広く利用されています。

高密度で均質なLiTaO3スパッタリングターゲットを提供可能です。サイズ、厚さ、形状はお客様のご要望に応じてカスタマイズできます。サンプルやカスタマイズソリューションについてはお問い合わせください
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製品

の特徴高密度により均一な薄膜成膜を実現
安定した結晶構造により信頼性の高い薄膜成膜結果を保証
サイズ、厚さ、形状のカスタマイズが可能
研究用および産業用薄膜製造に対応
表面仕上げが良好で欠陥率が低い
技術チームによる迅速な対応

タンタル酸リチウムスパッタリングターゲットの応用例

表面弾性波デバイス：
SAWデバイスの薄膜成膜に使用され、デバイス性能と信号精度を向上させます。
光電子デバイス
：光変調器や非線形光学薄膜の作製をサポートし、安定した光学性能を保証します。
圧電センサー：
圧力、加速度、音響センサーの薄膜成膜に使用され、感度と応答速度を向上させます。
マイクロエレクトロニクス機能薄膜：
MEMSおよびマイクロエレクトロニクスデバイスにおける高精度薄膜成膜に使用され、機能性と均一性を確保。

よくある質問

Q1: LiTaO3ターゲットは高出力マグネトロンスパッタリングに適していますか？
A1: はい。高密度ターゲットは高出力マグネトロンスパッタリング下でも安定した結晶構造を維持し、薄膜の均一性を保証します。

Q2: ターゲットのサイズと厚さはカスタマイズ可能ですか？
A2: はい。円形、正方形、特殊形状を含む様々なサイズ・厚さのターゲットを装置要件に応じて提供可能です。

Q3: ターゲット表面の欠陥率は高いですか？
A3: 表面は精密研磨されており、欠陥率が低く、高精度薄膜製造に適しています。

Q4: どの種類の薄膜の成膜に適していますか？
A4: 強誘電体/圧電機能薄膜、光電子薄膜、マイクロエレクトロニクス機能薄膜に適しています。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
寸法検査報告書
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能

当社を選ぶ理由

当社は機能性材料スパッタリングターゲット製造において豊富な経験を有し、カスタマイズされた高品質LiTaO3スパッタリングターゲットを提供することで、科学研究および産業応用における薄膜成膜の安定性と効率性を保証します。技術チームは迅速な対応と専門的なサポートを提供し、お客様の高精度薄膜作製を実現します。