ターゲット
、高純度GaSe粉末またはインゴットを高度な粉末冶金プロセスで製造した機能性セラミックターゲットです。GaSe材料特有の層状結晶構造、直接バンドギャップ、優れた非線形光学特性を継承し、物理的蒸着法(PVD)技術による高品質ガリウムセレン化物薄膜製造の基幹原料となります。 主に先進的な赤外線光電子工学、非線形光学、および新規二次元材料デバイスに応用されます。
当社は、複数の純度、寸法、ボンディング構成の高品質GaSeセラミックスパッタリングターゲットを提供しています。技術資料についてはお問い合わせください
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層状半導体構造
優れた非線形光学性能
中~遠赤外線用途向けに最適化された特性
高純度かつ精密な化学量論比
プロフェッショナルなバッキングプレートボンディング対応
赤外線・非線形光学デバイス:テラヘルツ発生/検出用コア機能部品、中赤外レーザー周波数倍増用薄膜成膜に採用。
光電子デバイス・検出器:高性能赤外線光検出器、電界効果トランジスタ、フレキシブル光電子デバイス用感応層の製造に採用。
フロンティア2次元材料・デバイス:高品質GaSe薄膜の成膜源として機能し、新規量子デバイス・センサーの基礎研究および応用開発を可能にします。
特殊機能性コーティング:独自の光学特性・半導体特性を活かし、赤外線窓や特殊センサー用機能性薄膜として成膜されます。
Q1: GaSeターゲット材を選ぶ理由は?
A1: 独自の層状構造と卓越した非線形光学特性が中赤外・テラヘルツ帯光電子デバイス製造に特に適している点が核心的利点です。
Q2: GaSeターゲット材料の純度要件は?
A2: 最適な薄膜光電子性能を確保するため、純度は通常99.9%以上が必要です。高純度は不純物による欠陥を効果的に低減します。
Q3: 使用・保守時の注意事項は?
A3: 本材料は脆性があるため、設置・取り外し時は慎重な取り扱いが必要です。湿気暴露防止のため密閉容器で保管してください。層状構造のため、均一な薄膜形成にはスパッタリングプロセスパラメータの最適化が必須です。
Q4: 非標準寸法やボンディングのカスタマイズは可能ですか?
A4: はい。お客様の装置チャンバーとプロセス要件に基づき、ターゲット形状・サイズのカスタマイズをサポートします。専門的なバッキングプレート接合サービスも提供します。各バッチには
書類を添付:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
物質安全データシート(MSDS)
第三者試験報告書(ご要望に応じて提供)
特殊複合ターゲットにおける専門知識を活かし、高安定性・高均一性のGaSeターゲットとカスタマイズソリューションを提供します。
分子式GaSe
分子量:144.72 g/mol
外観暗灰色~暗灰色の緻密なターゲット材料
密度: 5.32 g/cm³
融点約 950 °C
結晶構造六方晶
内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。