ストロンチウムフェライト
スパッタリングターゲットは、薄膜磁気デバイスおよび電子部品の製造に使用される高性能磁性材料です。
当社は、磁性薄膜成膜、センサー、科学研究実験に適した高密度・高均一性のストロンチウムフェライトスパッタリングターゲットを提供しています。サイズや形状はお客様のニーズに合わせてカスタマイズ可能で、スパッタリング均一性と薄膜性能を保証します。 サンプルについてはお問い合わせください
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高い磁気安定性
優れた熱安定性
高密度かつ均一な構造
カスタムサイズ・形状に対応
容易なスパッタリングと薄膜成膜
高純度・低不純物
長期保存安定性
オプションのターゲットボンディング
様々な電子・磁気用途に適応
デバイス性能向上のための磁性薄膜製造に使用。
磁気センサーや磁気記憶装置に適しています。
科学研究実験における機能性磁性薄膜の作製に使用。
磁気電子デバイスの表面機能化への応用。
Q1: このスパッタリングターゲットに適したスパッタリングプロセスは？
A1: 本製品はDCスパッタリングとRFスパッタリングの両方に適し、優れた膜均一性を実現します。
Q2: 厚さや直径のカスタマイズは可能ですか？
A2: 各種装置のニーズに応じ、異なる直径・厚さ・形状を提供可能です。
Q3: 保管時の注意点は？
A3: 乾燥した環境で密閉容器に保管し、湿気や長時間の光曝露を避けてください。
Q4: ターゲット材料の純度はどのように保証されていますか？
A4: 高純度原料を使用し、製造工程と不純物含有量を厳格に管理することで高純度基準を確保しています。
各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書
ご要望に応じて提供
先進的なスパッタリングターゲット製造技術と厳格な品質管理システムを有し、高密度・均一構造・磁気安定性を保証します。 柔軟なカスタマイズと専門的な技術サービスを組み合わせ、お客様に信頼性の高い高性能磁性スパッタリングターゲットソリューションを提供し、科学研究と産業応用の円滑な実施を支援します。
化学式SrFe₁₂O₁₉(鉄)
分子量：1,596.0 g/mol
外観暗褐色～黒色のセラミックスパッタリングターゲット
密度：～5.1 g/cm³
結晶構造六方晶（マグネトプランバイト型）
内包装：汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装：サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。
