ULPMAT

スカンジウム金属

Chemical Name:
スカンジウム金属
Formula:
Sc
Product No.:
2100
CAS No.:
7440-20-2
EINECS No.:
231-129-2
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2100ST001 Sc 99.99% Ø 50.8mm x 6.35mm Inquire
2100ST002 Sc 99.99% Ø 76.2mm x 6.35mm Inquire
2100ST003 Sc 99.99% Ø 101.6mm x 6.35mm Inquire
2100ST004 Sc 99.995% Ø 50.8mm x 6.35mm Inquire
Product ID
2100ST001
Formula
Sc
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8mm x 6.35mm
Product ID
2100ST002
Formula
Sc
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2mm x 6.35mm
Product ID
2100ST003
Formula
Sc
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6mm x 6.35mm
Product ID
2100ST004
Formula
Sc
Purity
99.995%
Dimension
Ø 50.8mm x 6.35mm

スカンジウム金属スパッタリングターゲット概要

スカンジウム金属
スパッ
タリング
ターゲットは、物理的蒸着(PVD)プロセスで使用される高純度の主要原料です。表面コーティングにおいて中心的な役割を果たし、最終製品の物理的・化学的特性を大幅に向上させます。

当社は高品質なスカンジウム金属スパッタリングターゲットの製造に注力しており、お客様の特定プロセス要件に基づいたカスタマイズサービスを提供可能です。ご要望がございましたらお気軽にお問い合わせください

製品特長

緻密で均一な結晶粒構造
高い接着
強度と長寿命
多様な形状・仕様、柔軟な供給体制
極めて低い不純物含有量、安定したスパッタリングプロセス

スカンジウム金属スパッタリングターゲットの応用

分野電子・半導体:
次世代メモリチップやロジックチップの重要薄膜層製造に使用され、消費電力削減と演算速度向上に貢献。
航空宇宙:
耐熱性・耐食性に優れた先進コーティング材として、エンジン部品や宇宙機の表面保護に活用。
科学研究:
新磁性材料・超電導薄膜などの先端研究用試料調製に用いられ、材料科学探求の重要ツールとして機能。

よくあるご質問

Q1: スカンジウム金属スパッタリングターゲットの標準純度は?

A1: 研究用途の多様なニーズに対応するため、99.99%から99.995%の高純度製品を提供しています。

Q2: 使用前にスパッタリングターゲットの特別な処理は必要ですか?
A2: はい。最適な性能を確保するため、真空環境下での予熱・脱ガス処理、および汚染防止のための適切な設置・清掃手順の遵守をお勧めします。

Q3: スパッタ成膜の均一性はどのように確保していますか?

A3: これはターゲット自体の高密度性と構造均一性に依存します。スパッタリングプロセスパラメータ(電力やガス圧力など)の最適化も重要です。関連する技術サポートを提供可能です。

Q4: スパッタリングターゲットの標準納期は?

A4: 標準仕様品は在庫ありで迅速納品が可能です。カスタマイズ品は技術要件によりリードタイムが異なります。お客様と緊密に連携し合理的な納期を決定します。

報告書

各ロットに付属:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
安全データシート(MSDS)
寸法検査報告書
第三者機関による試験報告書

ご要望に応じて提供

)当社を選ぶ理由

当社は長年特殊金属材料分野に深く携わり、原料精製からスパッタリング・成形までサプライチェーン全体を管理する能力を有しています。お客様のプロセスを深く理解しているため、優れた信頼性の高い製品を提供するだけでなく、材料ソリューションにおける長期的なパートナーとして、技術的課題の解決とイノベーションの推進を共に推進します。

分子式Sc
分子量:44.96 g/mol
外観銀白色または銀灰色の金属ターゲット
密度: 2.99 g/cm³
融点: 1541 °C
沸点:2836 °C
結晶構造六方最密充填 (HCP)

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木製クレートを選択します。

資料

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