ジルコン酸バリウムスパッタリングターゲットは、高性能薄膜蒸着プロセス用に設計された先進のセラミック材料です。99.9%までの純度で、優れた密度と熱安定性を提供し、均一な成膜と高品質の薄膜を保証します。エレクトロニクスや光学分野で広く使用されています。
弊社では、円形や長方形など様々なサイズのジルコン酸バリウムスパッタリングターゲットを取り揃えており、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズすることも可能です。また、総合的なアフターサービスも提供しております。 お問い合わせお気軽にお問い合わせください。
純度：99.9
高密度で均一な薄膜形成を実現
高温プロセスに適した優れた熱安定性
多様なアプリケーション要件に対応するカスタマイズ可能なサイズと形状
ターゲットボンディングサービスあり
電子セラミックス、強誘電体材料、機能性薄膜の製造に最適
電子セラミックス高性能電子部品や誘電体材料の製造に使用されます。
強誘電体材料不揮発性メモリーやセンサー用の強誘電体薄膜成膜ターゲットとして使用される。
光学薄膜:デバイスの性能と安定性を高める機能性光学コーティングに使用される。多機能薄膜：先端材料ニーズに対応した各種機能性セラミックス膜の製造に適しています。
弊社では 分析証明書（COA）製品安全データシート(MSDS)などの関連報告書を出荷毎に提供します。また、第三者機関による試験にも対応し、安定した品質を保証します。
分子式：BaZrO₃
分子量：233.23 g/mol
外観滑らかな表面を持つ白色の緻密なセラミックターゲット
密度約6.0 g/cm³（理論密度に近い）
融点約2,350°C
結晶構造立方晶または正方晶（調製工程により若干異なる）
包装：真空シールされた袋で、汚染や湿気を防ぐために箱詰めされている。
外箱梱包：サイズと重量に応じて選択されたカートンまたは木枠。
