ジルコニウム銅ニッケルアルミニウム合金スパッタリング
ターゲット
は
、電子機器および光学デバイスにおける精密な薄膜成膜用に設計された高性能金属ターゲットです。優れた導電性と耐久性を備えた均一で高品質な薄膜の形成に最適です。
当社は、合金組成と表面品質を厳密に管理し、様々な形状、サイズ、厚さのジルコニウム銅ニッケルアルミニウムスパッタリングターゲットを製造しています。当社のチームは、特定の成膜ニーズに対応するため、カスタム寸法、最適化された合金比率、技術サポート
を提供できます。お見積りをご希望の場合はお問い合わせください
。
高い電気伝導性と熱伝導性
均一な合金分布
優れた耐食性と耐酸化性
滑らかで欠陥のない表面
厳密な寸法公差
安定した再現性のある薄膜性能
RFおよびDCスパッタリングシステムとの互換性
不純物含有量の少ない高純度
成膜物の強固な密着性
形状・サイズのカスタマイズ対応
半導体:
高性能チップの電極・接点に使用。
メモリ・データストレージデバイス:安定した導電性が求められる薄膜部品に最適。
オプトエレクトロニクス:
ディスプレイやセンサーの反射・導電性コーティングに適する。
工業用保護コーティング: 機械・工具の耐食・耐摩耗性フィルムとして適用。
質問Q1: ZrCuNiAlターゲットの出荷時の包装方法は?
A: 各ターゲットは保護用帯電防止材で包み、真空密封後、強化段ボール箱に梱包し、表面の傷や酸化を防止します。
Q2: ターゲットのサイズや合金組成のカスタマイズは可能ですか?
A: はい、様々なスパッタリング要件に合わせて、カスタム寸法・形状・合金比率を提供します。
Q3: 推奨される保管条件は?
A: 性能維持のため、清潔で乾燥した温度安定環境で保管し、湿気や化学薬品との直接接触を避けてください。
Q4: 貴社のターゲットの純度の利点は何ですか?
A: 高純度かつ低不純物含有量により、薄膜品質の一貫性と成膜時の汚染最小化を保証します。
各ロットに付属:
分析証明書(COA)
物質安全データシート(MSDS)
第三者試験報告書
ご要望に応じて提供
当社は、精密な合金組成、滑らかな表面、信頼性の高い性能を備えた高品質なZrCuNiAlスパッタリングターゲットを提供し、重要な薄膜アプリケーションに対応します。カスタマイズソリューション、迅速な生産、専門的な技術サポート
により、お客様が正確で高性能な成膜結果を達成できるよう支援します。
分子式ZrCuNiAl
外観緻密で銀灰色から暗灰色の金属ターゲットで、表面は滑らかで平坦。
内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。