ケイ酸リチウム

リチウムオルトシリケートスパッタリングターゲット概要

リチウム

オルトシリケートスパッタリング

ターゲット

は、

エネルギーおよび原子力分野における薄膜成膜に広く使用される先進的なセラミック材料です。Li₄SiO₄は、優れた熱安定性、良好なイオン伝導性、および高いリチウム含有量で知られています。

当社は、特定の研究や産業要件を満たすため、様々な純度、サイズ、形状のカスタマイズ可能なリチウムオルトシリケートスパッタリングターゲットを提供しています。包括的なサポートも提供しておりますので、お気軽にお問い合わせ
ください。

製品の特長

典型的な純度 ≥99.9%
高密度かつ均一な微細構造
カスタマイズ可能なサイズと形状：円形、長方形、その他の形状で提供可能。
オプションによる組成調整：お客様の特定の用途要件に応じて化学量論比の調整やドーパント添加が可能です。

リチウムオルトシリケート粉末の応用分野

核融合：Li₄SiO₄は核融合炉ブランケットにおけるトリチウム生成用の主要なセラミック増殖材料です。
固体リチウム電池：イオン伝導性を向上させる固体電解質または界面層におけるリチウムリッチ成分として。
水素・同位体貯蔵：水素同位体の安全な貯蔵と制御放出を目的としたセラミック複合材料に適用。

FAQ

Q1: リチウムオルトケイ酸塩スパッタリングターゲットは主にどのような薄膜形成に使用されますか？
A1: 本ターゲットは主にリチウムケイ酸塩機能性薄膜の作製に使用され、リチウム電池材料、セラミック機能層、エネルギー関連薄膜の研究で広く活用されています。

Q2: 薄膜形成におけるリチウムオルトケイ酸塩材料の特性は？
A2: 優れた化学的・構造的安定性を有し、スパッタリング時に均一で制御可能な薄膜構造を形成可能。

Q3: このスパッタリングターゲットはどの成膜プロセスに適していますか？
A3: リチウムオルトケイ酸スパッタリングターゲットは、RFスパッタリングやDCスパッタリングなどの一般的なPVDプロセスで使用可能で、各種実験装置やパイロットスケール装置に対応しています。

Q4: リチウムオルトケイ酸スパッタリングターゲットの使用・保管時の注意点は？
A4: 堆積プロセスにおけるターゲットの安定性と再現性を確保するため、乾燥した密閉環境での保管・取り扱いを推奨します。空気への長時間曝露は避けてください。

報告書

Li4SiO4の各ロットには分析証明書（COA）
および化学物質安全データシート（MSDS）
が付属します。
第三者機関による元素純度および相組成分析はご要望に応じて提供可能です。
XRDパターンおよび粒子径分析はオプションで対応可能です（要ご依頼）。