イッテルビウム金属

イッテルビウムスパッタリングターゲット 概要

薄膜蒸着用イッテルビウムスパッタリングターゲットは 、高度な薄膜材料の調製用に特別に開発された高純度希土類金属材料です。機能性フィルム層、電子部品、光学コーティング、科学研究開発に広く使用されています。最高99.95%の純度と高密度構造を併せ持つこれらの高純度イッテルビウムスパッタリングターゲットは、膜の均一性、膜の密着性、デバイスの安定性を効果的に向上させることができます。

弊社は、様々な形状（円形、長方形、特殊形状）とサイズのカスタマイズされたイッテルビウムスパッタリングターゲットを提供します。また、オプションのターゲット接合サービスにより、お客様の装置やプロセス要件に合わせて製品を調整することも可能です。同時に、お客様の研究開発や量産プロセスが円滑に進むよう、技術サポートやアフターサービスも充実しています。

イッテルビウムスパッタリングターゲット製品ハイライト

高密度：優れた成膜速度と膜の安定性を確保
カスタマイズに対応：形状、サイズ、クランプ構造は必要に応じてカスタマイズできます。
バインディングをサポート：お客様のご要望に応じて、バインディングとアンバインディングサービスを提供できます。
良好な互換性：DC/RFマグネトロンスパッタリングおよび他のシステムに適しています。
優れた希土類特性：優れた電子構造調整能力と光学応答性

イッテルビウムスパッタリングターゲットの用途

半導体デバイス：デバイス性能を最適化するためのドーピングソースまたは機能層材料として使用できる。
オプトエレクトロニック・ディスプレイ：機能性中間層または反射層としてOLED/レーザー/照明素子に使用される。
太陽電池：フィルム層の電気的・光学的相乗性能を向上させ、デバイスのエネルギー変換効率を高める。
科学研究開発：機能性酸化物、希土類合金膜、量子材料研究に広く利用されている。

レポートサポート

分析証明書(COA)、製品安全データシート(MSDS)などの関連報告書をバッチごとに提供します。また、品質保証を強化するため、第三者試験にも対応しています。