アルミン酸カルシウム（酸化アルミニウムカルシウム）

カルシウムアルミネートスパッタリングターゲット概要

カルシウムアルミネートスパッタリング
ターゲット

は、

物理的気相成長（PVD）技術に使用される高純度セラミックターゲットです。主に、優れた光学特性、電気特性、または保護特性を備えたカルシウムアルミネート薄膜を基板表面に堆積させるために用いられ、光電子工学、ディスプレイ技術、表面工学において幅広い応用が見られます。

当社は各種仕様の高密度・高純度カルシウムアルミネートスパッタリングターゲットの製造・供給を専門としています。カスタムサイズおよびボンディング
サービスも提供可能です。技術相談やサンプル評価については、いつでもお問い合わせ
ください。

製品の特徴

超高純度・高密度
優れた微細構造
多様な仕様オプション
信頼性の高いボンディング
プロセス

アルミニウムカルシウムスパッタリングターゲットの用途

光学コーティング用途：
光学部品向け反射防止膜、保護膜、特定屈折率の機能性膜の形成に使用され、光学システムの性能を向上させます。
電子・ディスプレイ技術：
フラットパネルディスプレイ、半導体
デバイス、ストレージ部品の薄膜成膜プロセスにおいて、誘電体層または緩衝層材料として機能します。
耐摩耗性保護コーティング：
工具、金型、精密部品にアルミン酸カルシウム膜を堆積させることで、表面硬度、耐摩耗性、耐食性が大幅に向上します。
新興機能材料研究：
新規強誘電体、蛍光体、触媒薄膜材料の探索における基礎スパッタリング源として機能し、最先端の科学研究とハイエンド製品開発を支援します。

よくある質問

Q1：スパッタリング時のアルミン酸カルシウムターゲットにはどのような特殊なプロセスパラメータが必要ですか？
A1：正確な化学量論比の薄膜を得るためには、適切な電力と酸素分圧条件下での反応性スパッタリングが一般的に推奨されます。 具体的なパラメータは、お客様の装置と膜の要求に基づいて最適化が必要です。

Q2: ターゲットの密度と純度は最終膜にどのように影響しますか？
A2: 高密度はスパッタリング時の粒子飛散を効果的に低減し、膜の緻密性を高めます。高純度は、膜の正確な化学組成、安定した性能、および不純物や欠陥の最小化を確保するために不可欠です。

Q3: 小型または特殊形状のターゲットのカスタマイズは可能ですか？
A3: はい。特殊な寸法、形状、複合構造のカスタマイズされたターゲットソリューションを提供し、お客様の研究開発や小ロット生産のニーズに対応します。詳細については技術チームにご相談ください。

Q4: ターゲットの一般的な寿命はどれくらいですか？また、寿命に影響する要因は何ですか？
A4: 寿命はスパッタリング電力、エッチング領域の均一性、冷却効率など複数の要因に依存します。適切な使用とターゲット表面の十分な冷却確保が寿命延長に効果的です。

報告書

各ロットに付属：

分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

安全データシート（MSDS）

寸法検査報告書
第三者試験報告書

（

ご要望に応じて提供

）
当社を選ぶ理由

当社は先進セラミックスパッタリングターゲットの研究開発・製造を専門とし、薄膜成膜プロセスにおけるターゲットの核心的な品質要件を深く理解しています。高純度粉末合成、精密成形/焼結から厳格な非破壊検査まで、全工程にわたり緻密な管理を実施。新素材開発と産業化における信頼できるコア材料サプライヤーとなることを目指し、卓越した製品性能、専門的な販売前技術サポート、確実な納品能力を提供します。