ロータリーターゲットのユニークな円筒形デザインの核となる利点は、物理的な回転によってターゲット表面を均一に利用できることである。この設計は、スパッタリング中の材料消費を最適化するだけでなく、連続的な回転によって成膜材料の均一な分布を保証する。円筒の回転機構により、スパッタリングビームはターゲット表面により均一な浸食経路を形成することができ、ターゲットの利用率が大幅に向上し、薄膜蒸着プロセスにおける高い効率性と一貫性が保証されます。
当社のロータリーターゲットポートフォリオ
当社は、様々な産業ニーズに対応するため、包括的なロータリーターゲットを提供しています。
| 金属ロータリーターゲット | 合金ロータリーターゲット | セラミック回転ターゲット |
| アルミニウム（Al） | ニッケルクロム（NiCr） | 酸化ニオブ（Nb2O5） |
| チタン（Ti） | チタンタングステン（WTi） | 炭化ケイ素（SiC） |
| 銅（Cu） | 錫亜鉛（ZnSn） | 酸化インジウムスズ（ITO） |
| モリブデン（Mo） | ニッケル鉄（NiFe） | アルミニウムドープ酸化亜鉛（AZO） |
| タングステン（W） | シリコンアルミニウム（SiAl） | ガリウムドープ酸化亜鉛（GZO） |
| シリコン（Si） | シリコンアルミニウムジルコニウム（SiAlZr） | 酸化インジウム・スズ（ITO） |
さらに、半導体、太陽電池、光学産業向けに設計された化合物および特殊ロータリーターゲットを提供しています。
回転ターゲットと平面ターゲットの比較
ターゲットの利用ロータリーターゲットは、そのユニークな回転メカニズムにより、ターゲットの利用率を70％～80％以上に大幅に向上させることができます。平面ターゲットは通常、40％～50％の材料利用率しか達成できない。
成膜効率：平面ターゲットは、特定の性能要件を満たすための小面積または特定の形状の成膜に適しています。ロータリーターゲットは、大面積での均一成膜において大きな利点を発揮します。これは成膜効率を向上させるだけでなく、フィルムの均一性と一貫性を確保し、製品品質の向上に不可欠です。
費用対効果：平面ターゲットは初期コストが低いため、予算が限られているアプリケーションや、膜の均一性が重要でないアプリケーションに最適です。ロータリーターゲットは、初期投資とメンテナンスコストは高いものの、高い材料利用率と成膜効率により、長期的にはユーザーの材料費をより節約し、生産性を向上させることができます。
ロータリーターゲットの用途は？
高度な冶金学、厳格な品質管理、ニーズに合わせたエンジニアリングにより、当社のロータリーターゲットはスパッタリングプロセスの効率と膜質を最適化し、次世代のコーティングと薄膜アプリケーションの実現を可能にします。
