金属ルテチウム

ルテチウム金属スパッタリングターゲット 概要

ルテチウム金属スパッタリングターゲット 薄膜蒸着用ルテチウム金属スパッタリングターゲットは、高精度薄膜コーティングプロセス用に設計された高性能材料です。99.9%までの純度を持つ 高純度ルテチウムスパッタリングターゲットは、優れた密度と均一な微細構造を提供し、蒸着膜の安定性、コンパクト性、優れた密着性を保証します。当社の真空グレードのルテチウム金属スパッタリングターゲットは、不純物含有量を効果的に低減し、半導体および光学コーティングプロセスの厳しい要件を満たし、エレクトロニクス、フォトニクス、および先端材料研究での使用に最適です。

丸型、長方形など様々なサイズと形状の高純度ルテチウムを 、お客様のニーズに合わせてカスタマイズしてご提供いたします。包括的な技術サポートとアフターサービスを備え、ルテチウムスパッタリングターゲットを使用した薄膜コーティングや蒸着アプリケーションにおける様々な問題を解決するお手伝いをいたします。

ルテチウム金属スパッタリングターゲットの製品ハイライト

高密度で、均一で緻密な成膜を実現
さまざまな装置のニーズに対応するため、サイズと形状をカスタマイズ可能
ターゲット結合サービスあり
充実した技術サポート

ルテチウム金属スパッタリングターゲットの用途

半導体：高性能デバイスの薄膜成膜に使用され、優れた電気的・光学的特性を提供します。
レーザー材料：ルテチウムベースのレーザー結晶および機能性薄膜の主要材料
オプトエレクトロニクスデバイス：LED、光ファイバー、光センサーにおける機能性薄膜成膜
ハイエンドコーティング: 耐摩耗性、耐腐食性、特殊機能性膜の作製に使用される

レポート

当社は、ルテチウムスパッタリングターゲットの各バッチについて、詳細な分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）およびその他の試験報告書を提供し、透明で信頼性の高い製品品質を保証するために第三者機関による試験をサポートします。より詳細な技術情報についてはお問い合わせください。