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鉄マグネシウム合金

Chemical Name:
鉄マグネシウム合金
Formula:
FeMg
Product No.:
261200
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
261200ST001 FeMg 99.95% Ø 152.4 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
261200ST001
Formula
FeMg
Purity
99.95%
Dimension
Ø 152.4 mm x 3.175 mm

鉄マグネシウム合金スパッタリングターゲット概要

鉄マグネシウム
合金スパッタリングターゲット

軽量金属合金ターゲットであり、主に機能性薄膜の作製、材料改質、および関連する研究・産業用途に使用されます。

様々な組成比率と仕様の鉄マグネシウム合金ターゲットを提供し、異なる装置やプロセス要件に対応します。最適なソリューションについてはお問い合わせ
ください。

製品特長

組成制御性
安定したスパッタリングプロセス
複数PVD成膜プロセスへの対応
カスタムサイズ・組成比の対応
安定した納期サイクル

鉄マグネシウム合金スパッタリングターゲットの応用

機能性薄膜成膜:特定の機械的・機能的特性を有する金属・合金薄膜の作製に利用可能。研究用途および一部産業用途に適する。

材料表面改質:金属や基板表面に鉄マグネシウム合金薄膜を堆積させることで、構造安定性や機能応答特性などの表面特性を調整できます。

軽量金属研究:鉄マグネシウム合金は軽量金属材料の実験研究で広く使用され、新規合金システムの探索用スパッタリング材料として機能します。

科学研究・実験室用途:大学や研究機関における合金薄膜、成長メカニズム、プロセスパラメータに関する基礎研究に適しています。

よくある質問

Q1: 鉄マグネシウム合金スパッタターゲットにはどのスパッタリング法が適していますか?
A1: 装置構成とプロセス要件に応じて、DCスパッタリングまたはRFスパッタリングに使用可能です。

Q2: 合金組成比は調整可能ですか?
A2: はい、特定の用途目標に基づき、異なる鉄マグネシウム比率のカスタマイズをサポートします。

Q3: このターゲットはスパッタリング中に不安定になりやすいですか?
A3: 適切なプロセスパラメータ下では、ターゲットのスパッタリングプロセスは安定しており、均一な薄膜が得られます。

Q4: このターゲットは主に研究用ですか、それとも産業用ですか?
A4: 研究実験と、一部のパイロットスケールおよび産業用途の両方に適しています。

報告書

各バッチに付属:

分析証明書(COA)

技術データシート(TDS)

安全データシート(MSDS)

サイズ検査報告書
第三者試験報告書

ご要望に応じて提供


当社を選ぶ理由

当社は金属・合金スパッタリングターゲットの安定供給に注力し、組成管理・加工一貫性・技術コミュニケーション効率を重視。これにより、薄膜プロジェクトの各段階において信頼性が高く持続可能な材料サポートを提供します。

分子式FeMg
外観銀灰色
結晶構造体心立方 (BCC)

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。

資料

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