クロム・アルミニウム・カーバイド

クロムアルミニウムカーバイドスパッタリングターゲット概要

クロムアルミニウム
カーバイドスパッタリングターゲット

は

、優れた熱安定性と耐酸化性を備えた高性能材料であり、高温・高腐食環境に適しています。薄膜成膜や先進コーティング技術に広く用いられ、エレクトロニクス、航空宇宙、材料科学分野で多用されています。

当社は、複雑な成膜プロセスにおいて安定した動作を保証する高純度の Cr2AlC スパッタリングターゲットを提供しています。具体的な製品要件や技術的なご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせ
ください。

製品のハイライト

高い熱安定性
優れた耐酸化性
正確なターゲットサイズと形状
優れた導電性
カスタマイズ可能なボンディング
およびバッキングプレート
高度なコーティングおよび薄膜成膜に適しています
強力なカスタマイズ
能力

炭化クロムアルミニウムスパッタリングターゲットの用途

薄膜堆積：
高性能薄膜の堆積、特に半導体および光学デバイスの製造に使用され、製品の耐久性と機能性を向上させます。
耐食性コーティング：
航空宇宙産業で耐食性コーティングとして広く使用されており、極端な高温や過酷な環境でも安定性を維持し、機器を腐食から保護します。
ハードコーティング：
Cr2AlCの高い硬度により工具・機械のハードコーティングに適し、耐摩耗性を向上。
電子デバイス：
電子産業において高級部品のコーティング材・構造材として使用され、デバイスの安定性と耐久性を強化。
よくある質問
Q1: クロムアルミナカルバイド（Cr2AlC
）スパッタリングターゲットの最高使用温度は？
A1: Cr2AlC
スパッタリングターゲットは優れた高温性能を有し、1000℃までの温度で安定した動作が可能。高温環境での用途に適しています。

Q2: 本製品はどの薄膜成膜法に適していますか？
A2: マグネトロンスパッタリングやイオンスパッタリングなど様々な薄膜成膜法に適しており、ハイエンド電子デバイスや光学
薄膜の製造に広く使用されています。

Q3: クロムアルミニウムカーバイドスパッタリングターゲットは耐酸化性を有しますか？
A3: はい、優れた耐酸化性を有し、高温・腐食環境下でも長期間安定して使用可能です。

Q4: クロムアルミニウムカーバイドターゲットの電気伝導度はどの程度ですか？
A4: 優れた電気伝導性を有し、様々な電子・電気用途に適しています。安定した電気的性能を保証します。

報告書

各ロットに付属：

分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

安全データシート（MSDS）

寸法検査報告書
第三者試験報告書

（

ご要望に応じて提供

）
当社を選ぶ理由

当社は高性能スパッタリングターゲットの研究開発・製造を専門とし、長年の業界経験と技術蓄積を有しています。当社を選べば、高品質なCr2AlCスパッタリングターゲット、効率的なカスタマイズ
サービス、包括的な技術サポート
を提供し、
お客様のアプリケーション成功を支援します。