窒化クロム

クロム窒化物スパッタリングターゲット概要クロム窒化物スパッタリングターゲットは

、優れた耐摩耗性と耐食性を備えた高性能クロム窒化物ターゲットです。電子機器、光学機器
、表面処理分野、特にハイエンドコーティングや薄膜成膜において広く使用されています。

当社は、ハイエンド薄膜成膜アプリケーションの厳しい要求を満たす高純度Cr2Nスパッタリングターゲットを提供しています。カスタマイズ
のご要望や技術的なご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせ
ください。

製品の特長

高純度
優れた耐食性と耐摩耗性
微細スパッタリング性能
安定した化学的・物理的特性
高効率な薄膜成膜能力
カスタマイズサービス対応
ボンディング
・バックプレーンのカスタマイズ可能

窒化クロムスパッタリングターゲットの用途

ハイエンドコーティング：
薄膜成膜に使用され、高性能ハードコーティングの製造に広く応用。工具や機械部品の耐摩耗性・寿命向上に寄与。
電子デバイス：
電子産業において高温・高強度薄膜の製造に使用。センサー、集積回路、その他デバイスに広く採用。
光学薄膜：
光学部品用コーティング。レンズやフィルターの耐久性向上と光学性能強化に寄与。
表面処理：
金属表面への窒化処理。耐摩耗性・耐食性・硬度を向上させ、航空宇宙・自動車産業で広く使用。

よくある質問

Q1：窒化クロムスパッタリングターゲットのスパッタリング効率は？

A1: 優れたスパッタリング効率を有し、短時間で高品質な薄膜の成膜が可能。大規模生産用途に適しています。

Q2: 窒化クロムスパッタリングターゲットは高温環境でのコーティングに適していますか？

A2: はい。優れた耐熱性を有し、高温環境下でも安定して動作します。高温コーティングや薄膜用途に適しています。

Q3: ターゲットのサイズや形状はカスタマイズ可能ですか？

A3: Cr2Nスパッタリングターゲットは各種標準サイズを用意しており、お客様のニーズに応じてカスタマイズも可能です。様々な用途要件に対応します。

Q4: 窒化クロムスパッタリングターゲットの耐食性は？

A4: 優れた耐食性を有し、特に化学的に腐食性のある環境での用途に適しています。これにより耐用年数を効果的に延長します。

報告書

各ロットには以下を添付：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
寸法検査報告書
第三者機関による試験報告書はご要望に応じて提供可能です

当社を選ぶ理由

当社は高品質スパッタリングターゲットの研究開発・製造に注力し、先進的な生産技術と豊富な業界経験を有しています。当社をお選びいただければ、高性能なCr2Nスパッタリングターゲットと専門的な技術サポートを提供し、お客様のプロジェクト成功を支援します。