マグネシウムニ
ッケルスパッタリングターゲット
、組成比率が精密に定義されたマグネシウム-ニッケル複合酸化物ターゲットであり、膜組成の高一貫性が求められる真空蒸着プロセスに適しています。主に機能性酸化物薄膜の作製、デバイス構造層の研究、および関連材料開発に使用されます。
当社は指定された化学組成比とサイズ要件に基づきMg0.2Ni0.8Oスパッタリングターゲットを加工可能で、安定した供給をサポートします。技術パラメータと見積もりについては直接お問い合わせ
ください。
正確かつ制御可能な組成比
複合酸化物ターゲット
緻密な微細構造、安定した焼結
良好なスパッタリングプロセス再現性
高い薄膜均一性
カスタムサイズ・形状対応
機能性酸化物薄膜成膜：均一な組成の酸化物薄膜形成に広く使用され、化学量論比と膜安定性の要求を満たします。
電子デバイス構造研究：関連デバイス構造層の開発において、本複合酸化物ターゲットは性能調整可能な薄膜材料の実現を支援します。
マグネトロンスパッタリングプロセス検証：本ターゲットは、マグネトロンスパッタリング条件下でのプロセスパラメータ最適化および安定性試験に適しています。
科学研究・材料開発：大学や研究機関における多成分酸化物材料の研究および性能評価に広く使用されています。
Q1：マグネシウムニッケル酸化物スパッタリングターゲットの組成比は調整可能ですか？
A1: 特定の研究やプロセス要件に応じて、マグネシウムとニッケルの比率をカスタマイズ可能です。
Q2: このターゲットは反応性スパッタリングに適していますか？
A2: 通常は直接酸化物スパッタリングに使用されます。具体的なプロセス方法は装置条件に基づいて確認が必要です。
Q3: マグネシウムニッケル酸化物ターゲットには特別な装置要件がありますか？
A3: 一般的なスパッタリング装置と互換性があります。ターゲットサイズに合わせた選択をお勧めします。
Q4: このターゲットは長期連続スパッタリングに適していますか？
A4: 適切な電力供給と冷却条件下では、比較的安定したスパッタリング性能を維持できます。
各ロットに付属：
分析証明書（COA）
安全データシート（MSDS）
サイズ検査報告書
第三者機関による試験報告書はご要望に応じて提供可能です
多成分酸化物スパッタリングターゲットの配合制御と焼結プロセスにおいて豊富な経験を有し、安定したターゲット組成と信頼性の高い加工を保証します。これにより、お客様の繰り返しデバッグコストを削減します。
内包装：汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装：サイズと重量に基づき、カートンまたは木製クレートを選択します。
