マグネシウム・ビスマス

マグネシウムビスマススパッタリングターゲット概要

マグネシウムビスマス
スパッタリングターゲット
は
、主にマグネシウムビスマス金属間化合物で構成される機能性ターゲットであり、薄膜成膜プロセスの安定化に適しています。これらのターゲットは、主に機能性薄膜、熱電関連薄膜、電子材料の研究に使用されます。

当社は、様々なサイズ、厚さ、組成制御されたマグネシウムビスマス化合物スパッタリングターゲットを提供し、迅速な選定と見積もりに対応します。

製品特長

・安定した金属間化合物組成
・高ターゲット密度による安定したスパッタリングプロセス
・優れた電気伝導性と高い成膜効率
・高い表面平坦性と良好な膜均一性
・柔軟な仕様設定、カスタム加工対応
・研究開発および小ロット生産に適応

マグネシウムビスマススパッタリングターゲットの応用分野

機能性薄膜成膜：組成均一性と膜品質への要求が高い用途に対応した機能性薄膜の作製に使用可能。
熱電薄膜研究：熱電材料分野において、関連薄膜の成膜に適し、実験パラメータの最適化や性能研究を支援。
電子材料・デバイス開発：電子デバイス用薄膜や関連構造の作製に使用可能で、薄膜の安定性と再現性を向上。
科学研究・プロセス検証：大学や研究機関における新素材薄膜のプロセス検証やパイロットスケール実験に適しています。

よくある質問

Q1：マグネシウムビスマススパッタリングターゲットはどのタイプの装置に適していますか？
A1：DCスパッタリングシステムまたはRFスパッタリングシステムに対応し、様々な実験装置や産業用装置に適しています。

Q2：ターゲット密度は薄膜品質に影響しますか？
A2: 高密度ほどスパッタリングプロセスが安定し、均一で緻密な薄膜形成に寄与します。

Q3: 装置要件に応じたターゲットサイズのカスタマイズは可能ですか？
A3: はい。円形、正方形、その他特殊サイズのカスタマイズ加工に対応します。

Q4: ターゲット保管時の注意事項は？
A4: 性能に影響する表面汚染を避けるため、乾燥した密閉環境での保管を推奨します。

報告書

各バッチには以下が付属：

分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

安全データシート（MSDS）

サイズ検査報告書
第三者試験報告書

（

ご要望に応じて提供

）
当社を選ぶ理由

当社は金属間化合物スパッタリングターゲットの調製と品質管理を専門とし、安定した信頼性の高い製品と迅速な技術サポートを提供し、お客様の薄膜調製ニーズを効率的に満たすお手伝いをいたします。