ヘキサフルオロアルミン酸ナトリウム（クリオライト）

ヘキサフルオロアルミネートナトリウム スパッタリングターゲット概要

ヘキサフルオロアルミネートナトリウムスパッタリング
ターゲット
は
、電子機器、光学機器、コーティング産業における薄膜成膜に使用される高性能無機材料です。その組成により、PVD（物理的気相成長）プロセスにおいて均一な成膜、優れた密着性、一貫した膜品質が保証されます。

当社は、産業用PVDシステムに適した各種サイズのNa₃AlF₆スパッタリングターゲットを提供しています。 お問い合わせ・ご注文は直接当社までご連絡
ください。

製品特長

真空蒸着下での高い安定性
均一な組成による一貫した薄膜形成
基板への優れた密着性
電子機器・光学・コーティング用途への適応性
信頼性確保のための低汚染・高純度
厳格な品質管理と試験

フッ化アルミニウムナトリウムスパッタリングターゲットの応用分野

電子産業：電子機器における誘電体層、絶縁膜、保護層のコーティングに使用。
光学
・フォトニクス：優れた透明性と均一性を備えた高品質光学コーティングを実現。
保護コーティング：耐食性・耐摩耗性を目的とした装飾・機能性コーティングに適用。
研究開発：実験的薄膜成膜や材料科学研究に適しています。

よくある

質問Q1: Na₃AlF₆スパッタリングターゲットは主にどの産業で使用されますか？
A1: 薄膜成膜用途として、電子機器、光学機器、コーティング業界、研究機関で頻繁に使用されます。

Q2: 使用前のNa₃AlF₆ターゲットの保管方法は？
A2: 表面状態を維持するため、湿気や機械的衝撃から保護された乾燥した涼しい環境で保管してください。

Q3: Na₃AlF₆スパッタリングターゲットはマグネトロンスパッタリングシステムで使用できますか？
A3: はい、均一な薄膜成膜のため、マグネトロンおよびその他のPVDスパッタリングシステムと完全に互換性があります。

Q4: 薄膜成膜におけるNa₃AlF₆ターゲットの利点は何ですか？
A4: 均一な膜、優れた密着性、低汚染性、安定した成膜速度を提供し、デバイス全体の性能を向上させます。各ロットには

以下

が付属します：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
サイズ検査報告書
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能

当社を選ぶ理由

信頼性の高い供給体制、厳格な品質管理、PVD用途向けカスタマイズソリューションを備えた高品質Na₃AlF₆スパッタリングターゲットを提供。電子機器・光学・研究用途において、一貫した薄膜性能、優れた密着性、最小限の汚染を保証します。