酸化ニオブリチウム

酸化ニオブ酸リチウム基板概要酸化ニオブ酸リチウム基板は、

薄膜成長や電子デバイス製造に適した高安定性の機能性材料基板です。リチウムイオン電池研究、光電子デバイス、機能性コーティング成膜に広く利用されています。

各種サイズ・厚さのLNO基板を提供。滑らかな表面と選択可能な結晶方位により、研究・産業用途のニーズに対応。サンプル・カスタマイズソリューションについては今すぐお問い合わせください
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製品の特長

結晶方位制御が可能（薄膜成長に有利）
表面平滑・低欠陥率
サイズ・厚さのカスタマイズ対応
高い熱安定性（高温プロセス対応）
研究・産業用途をサポート
技術チームによる迅速な対応

酸化ニオブリチウム基板の応用

薄膜成膜：
マグネトロンスパッタリング、プラズマ線束堆積（PLD）、化学気相成長（CVD）などの薄膜作製プロセスで使用され、膜の均一性と結晶品質を確保します。
リチウムイオン電池研究：
機能性基板として、高性能電極材料の堆積と性能試験をサポートします。
光電子・マイクロ電子デバイス：
センサー、光デバイス、マイクロ電子構造の成長に適した結晶方位制御された平坦基板を提供。

よくある質問

Q1: LNO基板の結晶方位オプションは？
A1: (001)、(110)など複数の方位が実験要件に応じて選択可能。

Q2: 基板サイズと厚さはカスタマイズ可能ですか？
A2: はい、お客様の装置要件に応じて様々な仕様を提供可能です。

Q3: LNO基板の表面粗さはどの程度ですか？
A3: 表面は精密研磨されており、粗さはナノメートルレベル以下で、高精度薄膜成膜に適しています。

Q4: 高温薄膜プロセスに使用できますか？
A4: 高温処理に適し、材料安定性が高く、安定した薄膜成長を保証します。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
寸法検査報告書
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能

当社を選ぶ理由

機能性材料基板製造において豊富な実績を有します

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滑らかな表面と制御可能な結晶方位を備え、科学研究から産業応用まで幅広く対応。技術チームがカスタマイズソリューションと迅速な対応を提供し、薄膜成膜・デバイス製造の効率化を支援します。