酸化チタン

酸化チ

タン

サブオキシドスパッタリングターゲット

概要

酸化
チタンスパッタリングターゲットはマグネリ相に属し、金属の導電性とセラミックスの高温耐性を兼ね備えています。これらのターゲットは主に、高導電性・高温耐性・構造安定性を備えた機能性薄膜の作製に使用され、電子デバイス、導電性セラミックス、科学薄膜材料の開発に広く活用されています。

当社は、DCまたはRFマグネトロンスパッタリングシステムに適した、緻密で組成均一なTi4O7スパッタリングターゲットを提供可能です。お客様の装置要件に応じて様々なサイズと加工方法をご用意し、科学研究や産業用薄膜作製ニーズにお応えします。今すぐお問い合わせください
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製品の特徴

マグネリ相チタン亜酸化物構造
高導電性、マグネトロンスパッタリングに適する
優れた熱安定性と耐熱衝撃性
スパッタリング時の組成安定性、良好な膜再現性
高温・真空・不活性雰囲気下での成膜に適応
機能性・構造性薄膜の作製に使用可能

酸化チタンサブオキシド スパッタリングターゲットの応用例

機能性薄膜成膜：
高導電性・耐高温性を備えた機能性薄膜の作製が可能で、電子デバイスや特殊コーティング用途に適しています。
導電性セラミックス及び複合薄膜：
高い導電性と安定性を活用し、導電性セラミックス及び複合薄膜材料を調製可能。
科学研究・材料開発：
マグネリ相材料、導電性酸化物薄膜、新規機能性薄膜の研究開発に広く利用される。
高温耐食性コーティング：
Ti4O7薄膜は高温・腐食環境下で安定した性能を示し、耐熱・保護コーティングの研究に適用可能。

よくある質問

Q1: 亜酸化チタンスパッタリングターゲットはどのスパッタリング法に適していますか？
A1: DCおよびRFマグネトロンスパッタリングシステムの両方に適しており、優れた導電性と各種PVDプロセスへの適応性を示します。

Q2: Ti₄O₇ターゲットの組成はスパッタリング中に安定していますか？
A2: 適切なプロセスパラメータ下では、ターゲットは安定した組成を維持し、良好な膜の再現性と均一性を実現します。

Q3: ターゲットは高温スパッタリング条件に耐えられますか？
A3: はい、ターゲットは優れた熱安定性と耐熱衝撃性を有し、長期高温成膜に適しています。

Q4: Ti₄O₇薄膜は主にどの研究分野で応用されますか？
A4: 主に導電性酸化物薄膜、機能性セラミック薄膜、高温コーティング、マグネリ相材料研究に使用されます。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

安全データシート（MSDS）
寸法検査報告書
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能

当社を選ぶ理由

当社は機能性セラミックスと高性能スパッタリングターゲットの研究開発・供給に注力し、Ti₄O₇スパッタリングターゲットが材料構造、緻密化、スパッタリング適合性の面で科学的・産業的基準を満たすことを保証し、薄膜作製に信頼性の高い保証を提供します。