ホウ化チタン

チタンホウ化物スパッタリングターゲット概要チ

タンホウ化物スパッタリングターゲット

は

、優れた電気伝導性と化学的安定性を備えた高硬度・高融点セラミックスパッタリングターゲットです。高硬度コーティング、導電性セラミック膜、機能性薄膜、科学用薄膜材料の開発に広く利用されています。

当社は組成均一で緻密な構造のTiB₂スパッタリングターゲットを提供しており、DCまたはRFマグネトロンスパッタリングシステムに適しています。詳細な仕様や技術情報についてはお問い合わせください。

製品の特徴

高硬度・高融点セラミックターゲット
優れた電気伝導性、安定した薄膜成膜
耐熱性・耐食性に優れ、高い熱安定性
高温・真空・不活性雰囲気下での成膜に適する
高いロット間均一性
サイズ・形状の
カスタマイズ可能

科学・産業用薄膜作製に適応

二ホウ化チタンスパッタリングターゲットの応用

高硬度・耐摩耗性コーティング：
工具・金型・産業機器表面に広く用いられる耐摩耗性高硬度コーティングの作製に適用可能。
導電性セラミック膜・複合膜：
導電性と化学的安定性を活かし、電子デバイスや機能性材料向けの金属セラミック複合膜・導電性セラミック膜の作製に利用可能。
研究・薄膜開発：
TiB2機能性薄膜の研究、新規高硬度コーティングの開発、膜性能試験に適用可能。
高温耐食性コーティング：
TiB₂薄膜は高温・腐食環境下でも安定性を示し、保護コーティングや高温電子機器に適しています。

よくある質問

Q1: TiB₂ターゲットに適したスパッタリング法は？
A1: DCマグネトロンスパッタリング及びRFマグネトロンスパッタリングに適しています。優れた導電性を有し、各種PVDプロセスに対応可能です。

Q2: TiB2ターゲットの組成はスパッタリング中に安定していますか？
A2: 適切なプロセス条件下では、ターゲットは安定した化学組成を維持し、優れた皮膜の再現性と均一性を実現します。

Q3: TiB2ターゲットは高温成膜に適していますか？
A3: はい。このターゲットは優れた熱安定性と耐熱衝撃性を有し、高温薄膜成膜に適しています。

Q4: TiB2スパッタリングターゲットの主な用途は？
A4: 主に耐摩耗性コーティング、導電性セラミック膜、機能性膜、科学研究用薄膜材料の開発に使用されます。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
サイズ検査報告書
ご要望に応じて第三者試験報告書も提供可能

当社を選ぶ理由

高性能セラミックスパッタリングターゲットの研究・供給に注力し、TiB2スパッタリングターゲットが材料構造、緻密化、スパッタリング適合性の面で科学・産業基準を満たすことを保証。機能性薄膜や高硬度コーティングの調製に信頼性の高い保証を提供します。