酸化チタン – ニオブ

酸化チタン – ニオブスパッタリングターゲット概要酸化

チ

タン

– ニオブスパッタリング
ターゲットは、高度な機能性薄膜の作製に特化した高純度・高密度の二酸化チタンをドープしたニオブセラミックスパッタリングターゲットです。 主に光学コーティング、半導体、スマートガラス用途に使用され、高性能透明導電性酸化物（TCO）
膜および誘電体膜の成膜に不可欠なコア材料として機能します。

お客様の特定のプロセス要件に合わせて、酸化チタン – ニオブ複合ターゲットを様々なサイズ、純度、組成、ボン
ディング方法でカスタマイズ可能です。 カスタマイズソリューションについてはお問い合わせ
ください。

製品の特徴

高純度かつ均一な複合体
卓越した膜均一性
高密度かつスパッタリング欠陥が少ない
優れた電気的・光学的特性

非標準カスタマイズへの対応

酸化チタン-ニオブスパッタリングターゲットの用途

スマート省エネガラス：
建築・自動車用途に採用。本ターゲットから成膜した薄膜は優れた断熱性と光透過性を実現し、エネルギー効率を大幅に向上させます。
フラットパネルディスプレイ＆タッチパネル：
高透明・低抵抗電極層形成においてITOターゲットの補完／代替選択肢として機能し、表示精細度とタッチ感度を向上。
光学部品：
各種反射防止コーティング、反射膜、フィルターの製造に使用され、レンズやセンサーなどの光学システムにおける画質と性能を効果的に向上させます。
半導体および機能性コーティング：
マイクロエレクトロニクスデバイスにおける誘電体層や透明電極として機能すると同時に、工具や機器向けの耐摩耗性・耐食性機能性保護コーティングを提供します。

よくある質問

Q1: TiO₂-Nbターゲット材料は従来のITOターゲットと比べてどのような利点がありますか？
A1: 優れた導電性と光透過率を維持しつつ、ニオブ（Nb）のドーピングにより膜の安定性と機械的特性が向上します。特定の用途ではコスト削減も可能であり、ITOターゲットに代わる高性能な選択肢となります。

Q2: このターゲット材料の代表的な純度と密度はどれくらいですか？
A2: 当社の製品は通常99.9%の純度を達成し、焼結密度は理論密度の95%を超えます。これにより安定したスパッタリングプロセスと優れた成膜品質が保証されます。

Q2: ターゲットの形状と接合
方法にはどのような選択肢がありますか？
A2: 円形や正方形など様々な形状を製造しており、銅バッキングプレートやアルミニウムバッキングプレートなど多様な接合方法に対応し、様々なスパッタリングチャンバー設計に対応します。

Q4: スパッタリング膜組成の均一性はどのように確保されていますか？
A4: 先進的な粉末処理技術とホットプレス焼結技術により、ターゲット材料内のTi、Nb、O元素の分布を高度に均一化し、大面積膜全体で一貫した組成を保証します。
各ロットには以下の書類を添付：

分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

安全データシート（MSDS）

寸法検査報告書

第三者機関

による試験報告書

はご要望

に応じて提供可能です。
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。

当社を選ぶ理由

当社は高性能セラミックスパッタリングターゲットの研究開発とカスタム製造を専門とし、豊富な技術ノウハウを有しています。原材料選定から精密加工に至るまで、各工程で厳格な品質管理を実施し、お客様の技術仕様を完全に満たす信頼性の高いターゲット製品を提供します。