コバルト・タンタル・ジルコニウム合金

コバルトタンタルジルコニウム合金スパッタリングターゲットの概要

コバルトタンタルジルコニウム合金

スパ

ッタ
リング
ターゲット

は

、優れた耐食性と熱安定性を備えた高性能コバルトタンタルジルコニウム合金ターゲットであり、磁性薄膜、高温導電層、マイクロエレクトロニクスデバイスの成膜に広く使用されています。

各種サイズ・純度・結晶形態のCoTaZr合金ターゲット
を提供し、サンプル試験・技術相談をサポートします。詳細情報とプロセスソリューションについてはお問い合わせ
ください。

製品特長

優れた耐食性

良好な熱安定性

信頼性の高い導電性

各種スパッタリングプロセスに対応

サイズ・結晶形態のカスタマイズ可能

ボンディング・バックプレーンのカスタマイズ可能

厳格なロット間均一性管理

柔軟な納期設定

科学研究実験およびプロセス検証をサポート

コバルトタンタルジルコニウム合金スパッタリングターゲットの応用

磁性薄膜作製：
コバルトタンタルジルコニウム合金スパッタリングターゲットは磁性薄膜の成膜に適しており、緻密で均一な膜を確保し、磁気特性の安定性を向上させます。

マイクロエレクトロニクスデバイス成膜：
マイクロエレクトロニクスデバイスにおける金属化層の成膜に使用され、デバイスの導電性と熱安定性を向上させます。

高温導電層：
高温下で導電性薄膜を成膜可能。優れた耐熱性と耐食性を発揮。

科学研究・材料開発：
研究機関や企業の研究開発部門で、材料性能試験やプロセスパラメータ最適化に広く活用。

よくある

質問Q1：コバルトタンタルジルコニウム合金スパッタリングターゲットはどのスパッタリングプロセスに適していますか？
A1: マグネトロンスパッタリング、RFスパッタリング、DCスパッタリングなど様々な薄膜成膜プロセスに適しています。

Q2: ターゲットの結晶形はカスタマイズ可能ですか？
A2: はい、性能要件を満たすため、お客様のニーズに応じて異なる結晶形のターゲットを提供可能です。

Q3: 使用中にターゲットは割れやすいですか？
A3: 高密度冶金プロセスで製造され、結晶粒が均一であるため、割れや気孔の発生リスクを効果的に低減します。

Q4: ターゲット保管時の注意点は？
A4: 密封された乾燥した換気環境での保管を推奨します。湿気や汚染を避け、ターゲット性能の安定性を維持してください。

報告書

各ロットに付属：

分析証明書（COA）

技術データシート (TDS)

化学物質安全データシート (MSDS)

サイズ検査報告書

第三者試験報告書

（

ご要望に応じて提供

）当社を選ぶ理由

当社は高純度コバルト・タンタル・ジルコニウム合金スパッタリングターゲット
の研究開発と安定供給を専門としています。包括的な品質管理システムと柔軟なカスタマイズ能力により、科学研究から産業応用まで対応可能な信頼性の高いトレーサブルなターゲットソリューションを提供し、プロジェクトの効率的な推進を支援します。