| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 4200ST001 | Mo | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 4200ST002 | Mo | 99.99% | Ø 100 mm x 6mm | Inquire |
| 4200ST003 | Mo | 99.99% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4200ST004 | Mo | 99.99% | Ø 110 mm x 5mm | Inquire |
| 4200ST005 | Mo | 99.95% | Ø 152.4 mm x 6.35mm | Inquire |
| 4200ST006 | Mo | 99.95% | Ø 237 mm x 15mm | Inquire |
| 4200ST007 | Mo | 99.99% | Ø 32.5 mm x 13mm | Inquire |
| 4200ST008 | Mo | 99.95% | 167 mm x 167 mm x 8mm | Inquire |
| 4200ST009 | Mo | 99.99% | 622 mm x 132 mm x 18mm | Inquire |
モリブデン金属
スパッタリングターゲットは、優れた電気・熱伝導性と機械的強度を備えた高純度金属ターゲットであり、マグネトロンスパッタリング、電子デバイス用薄膜製造、工業用コーティング堆積に広く使用されています。安定した物理特性と高いスパッタリング効率により、科学研究や工業生産において信頼性の高いターゲット選択肢となっています。
各種サイズ・純度グレードのモリブデン金属スパッタリングターゲットを、カスタマイズバックプレート付きで提供。ターゲット仕上げ・表面研磨・バルク供給にも対応。サンプル・見積もり・技術相談はお問い合わせください
。
高純度金属ターゲット
優れた電気・熱伝導性
高い機械的強度と耐久性
精密スパッタリングに適した平滑表面
バッチ安定性による膜均一性の確保
カスタマイズ可能なサイズとバックプレートタイプ
産業用量産から研究ニーズまで対応
迅速な納品と技術サポート
高性能電子デバイス用薄膜成膜
導電性薄膜の作製
光学
反射コーティングや装飾コーティングへの応用
科学研究機関や産業用スパッタリング装置における薄膜作製
Q1: スパッタリングターゲットはどのような形状に加工できますか？
A1: 円形、正方形、不規則形状のスパッタリングターゲットを提供し、バックプレート接合、表面研磨、厚み校正も対応可能です。
Q2: スパッタリングターゲット保管時の注意点は？
A2: 乾燥した通気性のある非腐食性環境で保管し、湿気・酸化・機械的損傷を避けてターゲット表面品質を確保してください。
Q3: モリブデン金属スパッタリングターゲットの主な利点は？
A3: 高純度、優れた電気・熱伝導性により均一なスパッタリングと安定した膜品質を実現。同時に高い機械的特性と長寿命を提供します。
Q4: 追加で提供できるサービスは？
A4: 技術相談、スパッタリングプロセス最適化の提案、サイズカスタマイズ、短納期、長期大量供給サービスなどです。
各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。
当社は包括的なスパッタリングターゲット製造・品質管理システムを有し、各ロットの安定した性能を保証します。
お客様のスパッタリングシステムに合わせて寸法・純度・バックプレートをカスタマイズし、科学研究から産業応用まで幅広く対応します。
詳細な試験報告書を提供し、製品のトレーサビリティを確保するとともに、ユーザーの信頼性を高めます。
技術チームが材料選定・プロセス指導・使用最適化まで包括的にサポートします。
迅速な納品と長期供給体制により、研究開発から量産まで安定した支援を実現します。
化学式：Mo
原子量： 95.95 g/mol
外観灰色の金属製の円形または長方形のターゲット
密度: 10.28 g/cm³（固体）
融点：2623 °C
沸点：4639 °C
結晶構造：体心立方 (BCC)
内包装：汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装：サイズと重量に基づき、カートンまたは木製クレートを選択します。
