ホウ化ジルコニウム

ジルコニウムホウ化物スパッタリングターゲット概要

ジルコニウムホウ化物
スパッタリングターゲットは、過酷な環境下での高性能薄膜成膜向けに設計されたエンジニアリングセラミック材料です。ZrB₂ターゲットは高純度、優れた電気伝導性、卓越した熱安定性を備え、幅広い用途において緻密で均一、かつ高硬度のコーティング形成を可能にします。

当社のZrB₂スパッタリングターゲットは、高度なホットプレスまたはSPSボンディングプロセスを用いて製造され、優れた機械的強度、低気孔率、信頼性の高い成膜性能を保証します。平面型、回転型、ボンディング型、バッキングプレート型など、多様なカスタム形状を提供し、研究開発から産業規模のコーティングシステムまで幅広いニーズに対応します。

製品の特徴

高純度
低気孔率・高密度
高い熱的・化学的安定性
高出力スパッタリング及び極薄膜形成条件に適応
優れた電気伝導性
完全カスタマイズ可能な寸法
構造・接合方法のカスタマイズ対応

ZrB₂スパッタリングターゲットの応用分野

保護用硬質コーティング：切削工具、耐摩耗部品、航空宇宙部品に採用。
機能性セラミック膜：高温耐性、耐食性、導電性セラミック層に適応。
マイクロエレクトロニクス＆センサー：高導電性セラミック構造体やバリア層向け。
光学
薄膜：赤外線・高エネルギー光学システム向け、耐久性・高安定性コーティングを実現。

よくある質問

Q1: ZrB₂スパッタリングターゲットの形状・サイズは？
A1: 平面ディスク、平板、段付きターゲット、回転チューブターゲットを提供。銅またはアルミニウム裏板への接合が可能。

Q2: ZrB2ターゲットは高出力スパッタリングに適していますか？
A2: はい。高い熱伝導性と優れたセラミック強度により、高スパッタリング電力下でも安定した動作が可能です。

Q3: ZrB2スパッタリングターゲットの保管方法は？
A3: 乾燥した密閉環境で保管してください。表面酸化を防ぐため、湿気や温度変動を避けてください。

Q4: 純度や密度はカスタマイズ可能ですか？
A4: はい。性能要件に基づき、調整可能な純度グレード、密度最適化、カスタマイズ焼結プロセスを提供可能です。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。

当社のZrB2スパッタリングターゲットを選ぶ

理由安定した膜品質：微粒子発生が少なく高密度のターゲット構造により均一な成膜を実現。
カスタマイズ生産：各種コーティング装置や用途に応じた特注生産が可能です。
技術サポート：スパッタリングパラメータ、接合方法、コーティング最適化に関する支援を提供します。
厳格な品質管理：各ターゲットは純度、密度、均一性、微細構造の試験を実施します。
安定供給と短納期：安定した材料サプライチェーンと効率的な生産能力を有しています。