ジルコニウム・シリコン合金

ジルコニウムシリコン合金スパッタリングターゲット概要ジルコニウムシリコン合金スパッタリングターゲットは

、
高温耐性、安定した膜組成、優れた機械的特性を兼ね備えた複合金属ターゲットです。機能性薄膜、硬質コーティング、マイクロエレクトロニクス材料の作製に広く用いられます。

当社は、各種サイズ・純度・構造のZrSiスパッタリングターゲットを提供しています。これには、熱間等方性プレス（HIP）ターゲット、熱間プレスターゲット、冷間プレス焼結ターゲット、大型コーティングターゲットが含まれます。形状、厚さ、組成比率は装置モデルに応じてカスタマイズ可能です。カスタム図面が必要な場合はお問い合わせ
ください。

製品の特長

均一な組成、緻密なターゲット表面
安定したスパッタリング速度
高純度、低含有物
各種カスタムサイズ・ボンディング対応
長期連続スパッタリングに適応
優れた膜密着性
高いプロセス適合性

ジルコニウムシリコン合金スパッタリングターゲットの用途

硬質コーティング：切削工具・金型・耐磨耗部品向け硬質保護膜の成膜。
光学
薄膜：反射防止コーティング・光学保護層・機能性光学構造の形成。
電子薄膜材料：集積回路、マイクロ/ナノデバイス、半導体薄膜工学に使用。
耐熱性薄膜：高温環境下での耐食性・構造強化膜用途に使用。

よくある質問

Q1：ZrSiスパッタリングターゲットの標準包装は？
A1: ターゲットは通常、耐衝撃性フォームボックスに真空密封され、輸送方法に応じて外装層でさらに補強されます。これにより表面の傷・衝撃・酸化を防止します。

Q2: どのような加工サービスを提供していますか？
A2: バックプレート接合、ターゲット溶接、表面研削、寸法精密加工、各種スパッタリング装置ブランドのクランプ要件に対応したカスタム穴設計を提供します。

Q3: スパッタリングターゲットの正しい保管方法は？
A3: 湿気・指紋・油分汚染を防ぐため、乾燥した密閉環境で保管してください。長期保管時は不活性ガス環境または密封袋への収納を推奨し、ターゲット表面品質を維持します。

Q4: 製品の純度と性能の利点は何ですか？
A4: 異なる純度グレードを提供しています。ターゲットは高密度で組成均一性に優れ、高い膜均一性と安定性が求められる用途に適しています。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）

技術データシート（TDS）

物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書

（

ご要望に応じて提供

） 当社を選ぶ理由

当社は成熟したターゲット製造プロセスと専門設備を有し、高密度・低欠陥・均一組成のZrSiスパッタリングターゲットを安定生産可能です。厳格な原料選定・品質検査・標準化製造プロセスにより、全ロットで優れた均一性とスパッタリング性能を保証します。さらに技術相談・迅速納品・仕様カスタマイズ・長期供給をサポートし、お客様のコーティングプロセス最適化・薄膜開発・生産安定化を確実に支援します。 当社は材料サプライチェーンにおける信頼できるパートナーです。