ケイ化ジルコニウム

ジルコニウムシリサイドスパッタリングターゲット概要ジルコニウムシリサイドスパッタリングターゲットは

、高密度・耐熱性に優れ、安定した膜組成を有する金属シリサイドターゲットです。機能性薄膜、耐摩耗性コーティング、マイクロエレクトロニクスデバイスの製造に広く用いられています。

当社は様々なサイズ、純度、形状のZrSi2スパッタリングターゲットを提供しています。円形ターゲット、矩形ターゲット、大型コーティングターゲット、特殊仕様のカスタムメイドターゲットを含みます。ターゲットは装置モデルに応じてスパッタリングチャンバーに適合可能で、バックプレートボンディング
、表面研削、穴加工をサポートします。ご要望がございましたらお気軽にお問い合わせ
ください。

製品の特長

高密度かつ優れた膜均一性
安定したスパッタリング性能
組成の一貫性が強い
精密加工・バックプレートボンディングに対応
長期連続コーティングに適する
高純度材料もご用意可能
複数装置

モデルに対応ジルコニウムシリサイドスパッタリングターゲットの

用途耐摩耗性コーティング：工作機械・金型等の耐摩耗表面への薄膜堆積に利用
電子薄膜：マイクロエレクトロニクスデバイスにおける導電層、バリア層、保護層の形成に適しています。
構造用コーティング：高温構造部品の保護コーティングとして、耐酸化性を向上させます。
機能性膜材料：特殊機能膜、反応性膜、複合膜構造の開発に使用。

よくある質問

Q1: ZrSi₂スパッタリングターゲットの包装方法は？
A1: ターゲットは静電気防止フィルムで包装され、耐衝撃フォームボックスと密封袋で保護。さらに硬質段ボール箱で補強し、輸送中の表面損傷や酸化を防止。

Q2: どのような加工サービスを提供していますか？
A2: バックプレート接合、寸法微調整、表面研磨、穴あけ加工、面取り加工、超音波検査などの加工サービスを提供し、各種コーティング装置の設置要件に対応します。

Q3: ターゲットの正しい保管方法は？
A3: 乾燥した清潔な環境で保管し、湿気・粉塵・油分汚染を避けてください。 長期保管の場合は、ターゲット表面性能を維持するため、密封または不活性ガス環境下での保管をお勧めします。

Q4: ZrSi2スパッタリングターゲットの純度と利点は何ですか？
A4: ターゲット純度は様々なグレードで提供され、低不純物含有量、緻密な構造、均一な組成を特徴とし、安定した膜組成、緻密な膜層、安定したスパッタリングレートを保証します。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
化学物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書（要請求）

当社を選ぶ理由

金属シリサイドスパッタリングターゲットの製造・カスタマイズを専門とし、完全な製造プロセスと厳格な品質管理システムを有しています。高い組成均一性を備えた高密度ZrSi2ターゲットを確実に提供可能です。 複数の試験により安定したスパッタリング性能と信頼性の高い膜品質を保証します。迅速な納品、カスタマイズ加工、技術相談を含む包括的なサービスを提供。科学研究から工業生産まで、長期にわたり安定した材料供給を実現する信頼できるスパッタリングターゲットサプライヤーです。