酸化ストロンチウム・ルテニウム

ストロンチウムルテニウム酸化物スパッタリングターゲット概要

高純度ストロンチウムルテニウム酸化物
スパッタリングターゲットは、機能性薄膜および電子デバイスの作製に適しています。

当社は、科学研究および産業用薄膜成膜に適した、様々な仕様の高密度SrRuO3スパッタリングターゲットを提供しています。サンプルのご請求やターゲットサイズのカスタマイズについてはお問い合わせください
。専門的な技術サポートとアフター
サービスを提供します。

製品の特徴

高純

度

緻密で均一、非多孔質
優れた電気伝導性と熱安定性
容易なスパッタ成膜
様々なターゲット形状・サイズに対応
ターゲットボンディングサービス提供
化学的安定性
科学研究および産業用薄膜のニーズを満たす
強力なカスタマイズ生産能力

ストロンチウムルテニウム酸化物スパッタターゲットの用途

電子デバイスにおける導電性薄膜の作製。
機能性セラミック薄膜における高性能導電層の実現。
超伝導材料及び関連科学研究実験への応用。
材料特性を向上させる多層複合膜または光学薄膜の作製。

よくある質問

Q1: SrRuO3スパッタリングターゲットはどの成膜プロセスに適していますか？
A1: DCマグネトロンスパッタリング（DC）、RFスパッタリング、パルスレーザー堆積（PLD）など、様々な薄膜作製プロセスに適しています。

Q2: 性能維持のための保管方法は？
A2: 乾燥した涼しい密閉環境で保管し、湿気や長時間の空気接触を避けてください。

Q3: ターゲットのサイズ・形状はカスタマイズ可能ですか？
A3: 丸形ターゲット、角形ターゲット、厚さ仕様を顧客のニーズに応じてカスタマイズし、様々な成膜装置の要求に対応します。

Q4: ターゲットの均一性と純度はどのように保証されますか？
A4: 各バッチのターゲットは化学組成分析と密度試験を実施し、均一性と高純度を確保しています。科学研究および産業用途に適しています。

報告書

各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書（要請求

）当社を選ぶ理由

当社は成熟した高密度SrRuO3ターゲット製造技術と包括的な品質管理システムを有し、カスタマイズ可能な高純度・安定性スパッタリングターゲットを提供。専門的な技術サービスにより、科学研究および産業用薄膜製造における信頼性の高い結果を保証します。