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酸化ガリウム鉄(GFO)

Chemical Name:
酸化ガリウム鉄(GFO)
Formula:
GaFeO3
Product No.:
31260800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
31260800ST001 GaFeO3 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
31260800ST001
Formula
GaFeO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm

ガリウム鉄酸化物スパッタリングターゲット概要

ガリウム鉄酸化物は
、磁気特性が電界によって制御され、電気特性が磁界によって制御されるという独特な磁気電気結合特性を示すマルチフェロイック機能性セラミック材料です。このターゲット材料は主にマグネトロンスパッタリングプロセスにおいて、高品質なGaFeO₃薄膜の成膜に使用されます。 このような薄膜は、次世代多機能センサー、不揮発性メモリ、スピントロニクスデバイスにおいて大きな応用可能性を秘めています。

当社は高純度・高密度のフェライトガリウムセラミックスパッタリングターゲットを複数標準サイズで提供し、カスタマイズオプションもご用意しています。特注ソリューションについてはお問い合わせください

製品の特徴

純度

正確な化学量論比
低気孔率の高密度
優れた微細構造均一性
専門的なバッキングプレート接合
サービス

ガリウムフェライトスパッタリングターゲットの応用例

先進センサー:磁気電気結合効果を活用した超高感度磁界・電界センサーの製造
情報ストレージ:新規多相不揮発性メモリ及びスピントロニクス論理デバイスの開発
集積
・マイクロ波デバイス:光通信用光導波路膜及び可変マイクロ波デバイスの成膜
フロンティア科学研究:強誘電体物理学およびヘテロ接合デバイスの基礎・応用研究における重要な薄膜材料として機能。

FAQ

Q1: GaFeO3ターゲットの中核的優位性は?
A1: 強誘電性と磁気電気結合性にあり、電気信号と磁気信号の二重制御・変換を可能にします。

Q2: このセラミックターゲットにはどのような純度要件が適用されますか?
A2: 高純度が不可欠です。膜性能は不純物に敏感です。性能を保証するため、99.9%を超える純度の製品を提供します。

Q3: ターゲットはどのように保管・維持すべきですか?
A3: 乾燥した環境内で、密閉された防湿容器に保管してください。脆い性質のため、衝撃によるひび割れを防ぐよう慎重に取り扱ってください。

Q4: 使用前にプレスパッタリングは必要ですか?
A4: はい。プレスパッタリングによりターゲット表面を洗浄し、潜在的な酸化物や汚染物質を除去することで、純粋な薄膜組成と安定した成膜を保証します。
各ロットには以下を添付:

分析証明書(COA)

技術データシート(TDS)

安全データシート(MSDS)

第三者試験報告書(要請求)

当社を選ぶ理由

当社は高性能特殊セラミックターゲットの供給を専門とし、専門的な技術サポート
により、最先端の機能性薄膜研究開発におけるお客様の成功を保証します。

分子式:GaFeO₃
分子量:187.88 g/mol
外観褐色~暗褐色セラミックターゲット
密度約5.2 g/cm³
融点約1,500 °C(分解前に軟化する)
結晶構造斜方晶

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。

資料

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