ULPMAT

ニッケルマンガン合金

Chemical Name:
ニッケルマンガン合金
Formula:
NiMn
Product No.:
282500
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
282500ST001 NiMn (50:50 at%) 99.95% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
282501ST002 NiMn (50:50 at%) 99.95% Ø 575 mm x 3 mm Inquire
Product ID
282500ST001
Formula
NiMn (50:50 at%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
282501ST002
Formula
NiMn (50:50 at%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 575 mm x 3 mm

ニッケルマンガン合金スパッタリングターゲット概要

ニッケルマンガン
合金スパッタリングターゲット

、薄膜成膜プロセスで使用されるニッケルマンガン合金材料であり、磁性薄膜や機能性合金層の作製に広く用いられます。

当社は組成比率を制御可能な高密度構造のNiMnスパッタリングターゲットを提供し、複数サイズでのカスタマイズ
に対応しています。 詳細な技術情報についてはお問い合わせ
ください。

製品の特

長調整可能なニッケル-マンガン比率
均一な合金微細構造
安定した膜組成
マグネトロンスパッタリングプロセスに適応
カスタマイズ可能なバックプレーンとボンディング
高いターゲット利用率
優れたプロセス再現性

ニッケルマンガン合金スパッタリングターゲットの用途

磁気機能性薄膜:特定の磁気応答を持つ合金薄膜の作製に適し、磁気特性変調アプリケーションのニーズを満たします。
マイクロエレクトロニクス・デバイス製造:高膜均一性が要求されるマイクロ電子デバイスにおいて、安定した機能性合金層の形成に使用。
電磁材料研究:電磁特性変調の研究や新規合金薄膜構造の探索における重要材料として活用可能。
研究・プロセス検証:研究機関や開発部門における実験用途に適し、プロセスパラメータ最適化、組成比検証、材料性能研究に活用可能。

よくある

質問Q1: NiMnスパッタリングターゲットはどのタイプの装置に対応しますか?
A1: 一般的なマグネトロンスパッタリング装置で使用可能です。具体的な互換性は装置仕様に基づき確認が必要です。

Q2: ターゲット組成比のカスタマイズは可能ですか?
A2: はい。薄膜性能目標に応じて、異なるニッケル-マンガン比率のターゲット溶液を提供可能です。

Q3: 使用中にターゲットは酸化しやすいですか?
A3: 標準的な保管・プロセス条件下では、ターゲット表面は安定しており、酸化リスクは管理可能です。

Q4: 小型サイズや実験仕様に対応していますか?
A4: はい。研究段階やパイロットスケール段階における様々な仕様要求に適しています。

報告書

各ロットに付属:

分析証明書(COA)

技術データシート(TDS)

安全データシート(MSDS)

寸法検査報告書
第三者試験報告書

ご要望に応じて提供


当社を選ぶ理由

当社は合金スパッタリングターゲットの加工と品質管理に注力し、組成均一性とプロセス安定性を重視。お客様に信頼性が高く持続可能な薄膜成膜材料ソリューションを提供します。

分子式NiMn
外観金属光沢、銀白色または灰色ターゲット材、滑らかな表面

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木製クレートを選択します。

資料

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